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    Analyse de l’augmentation et de la fluctuation discrète du courant d’obscurité des imageurs CMOS dans les environnements radiatifs spatiaux et nucléaires
    Le Roch, Alexandre ; Institut Supérieur de l'Aéronautique et de l'Espace ; et al.
    2020
    Online unknown
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    Development of isotropic etching processes of silicon to silicon-germanium for sub 10nm CMOS applications
    Rachidi, Sana ; STAR, ABES ; et al.
    2020
    Online unknown
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    Electronique CMOS en silicium microcristallin sur substrat flexible transparent
    Janfaoui, Sabri ; Institut d'Electronique et de Télécommunications de Rennes (IETR) ; et al.
    2012
    Online unknown
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    Electronique CMOS en silicium microcristallin sur substrat flexible transparent
    Janfaoui, Sabri ; Le Bihan, France ; et al.
    2012
    Online unknown
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    Design and Validation
    Thevenin, Mathieu ; Laboratoire d'Intégration des Systèmes et des Technologies (LIST) ; et al.
    2009
    Online unknown
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    Conception et validation d'un processeur programmable de traitement du signal à faible consommation et à faible empreinte silicium : application à la vidéo HD sur téléphone mobile
    Thevenin, Mathieu ; Laboratoire d'Intégration des Systèmes et des Technologies (LIST (CEA)) ; et al.
    2009
    Online unknown
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    Procédé laser de réalisation de jonctions ultra-minces pour la microélectronique silicium: étude expérimentale, modélisation et tests de faisabilité
    Hernandez, Miguel ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; et al.
    2005
    Online unknown
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    Procédé laser de réalisation de jonctions ultra-minces pour la microélectronique silicium: étude expérimentale, modélisation et tests de faisabilité
    Hernandez, Miguel ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; et al.
    2005
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Etude et caractérisation de l'influence des contraintes mécaniques sur les propriétés du transport électronique dans les architectures MOS avancées
    Rochette, Florent ; Département Nanotec (D2NT) ; et al.
    2008
    Online unknown
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    Modeling of the electrical manipulation of hole silicon qubits
    Venitucci, Benjamin ; STAR, ABES ; et al.
    2020
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Electromagnetic characterization of the propagation channel on silicon : Intra-chip wireless interconnections - applications for WiNoC systems
    El Masri, Ihsan ; Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (Lab-STICC) ; et al.
    2019
    Online unknown
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    Caractérisation électromagnétique du canal de propagation sur silicium : applications aux interconnexions sans fils intra-puce pour les systèmes WiNoC
    El Masri, Ihsan ; Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (Lab-STICC) ; et al.
    2019
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Realization and characterization of vertical silicon nanowires MOS transistors
    GUERFI, Youssouf ; Laboratoire d'analyse et d'architecture des systèmes (LAAS) ; et al.
    2015
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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    Quantified current generation by silicon devices for quantum metrology
    Clapera, Paul ; Laboratoire de Transport Electronique Quantique et Supraconductivité (LaTEQS) ; et al.
    2015
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Dispositifs électrooptique assistés plasmon en silicium
    Nambiar, Siddhath ; Commissariat à l'énergie atomique et aux énergies alternatives - Laboratoire d'Electronique et de Technologie de l'Information (CEA-LETI) ; et al.
    2012
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Study of SiGe nanowires growth by chemical vapour deposition and characterization by atomic force microscopy
    Potié, Alexis ; STAR, ABES ; et al.
    2012
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Silicon Nanowires : Metallic catalyst assisted chemical vapor deposition and beginnings of integration
    Dhalluin, Florian ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2009
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Réalisation et étude des propriétés électriques d'un transistor à effet tunnel 'T-FET' à nanofil Si/SiGe
    Brouzet, Virginie ; Laboratoire des technologies de la microélectronique (LTM) ; et al.
    2015
    Online unknown
    Zugriff:
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    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Simulation d'un transistor MOS silicium-sur-isolant à désertion profonde avec contrôle du potentiel arrière
    Brini, J. ; Balestra, F.
    1984
    Online unknown
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