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    Simplified CVD route to near-zero thickness silicon nitride films.
    Arkles, Barry ; Brick, Chad ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Nanotechnology & Microelectronics, Jg. 40 (2022-07-01), Heft 4, S. 1-5
    academicJournal
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    Spectrometric analysis of silicon nitride films deposited by low-temperature liquid-source CVD.
    Kou, R. ; Yamamoto, N. ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 126 (2019-10-07), Heft 13, S. N.PAG- (7S.)
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Development of Catalytic-CVD SiNx Passivation Process for AlGaN/GaN-on-Si HEMTs.
    Kang, Myoung-Jin ; Kim, Hyun-Seop ; et al.
    In: Crystals (2073-4352), Jg. 10 (2020-09-01), Heft 9, S. 842-842
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    Siehe Detailanzeige für Volltext
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    Stress in ion-implanted CVD Si3N4 films.
    EerNisse, E. P.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 48 (1977-08-01), S. 3337-3341
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    High-field dark currents in thin CVD silicon nitride.
    Andrews, J. M.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 51 (1980), S. 495-502
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Low-Temperature ICP-CVD SiNx as Gate Dielectric for GaN-Based MIS-HEMTs.
    Dutta, Gourab ; DasGupta, Nandita ; et al.
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 63 (2016-12-01), Heft 12, S. 4693-4701
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
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    Growth of silicon nitride by nitridation of amorphous silicon at low temperature in hot-wire CVD.
    Rai, Dharmendra Kumar ; Solanki, Chetan Singh ; et al.
    In: Materials Science in Semiconductor Processing, Jg. 67 (2017-08-15), S. 46-54
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effects of electron-beam irradiation on the properties of CVD Si3N4 films in MNOS structures.
    Ma, T. P.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 47 (1976-04-02), S. 1599-1604
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Super water-repellent treatment of various cloths by deposition of catalytic-CVD polytetrafluoroethylene films.
    Matsumura, Hideki ; Mishiro, Mai ; et al.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 35 (2017-11-01), Heft 6, S. 1-6
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Investigation of CVD silicon nitride encapsulation for gallium arsenide.
    Leigh, P.A.
    In: International Journal of Electronics, Jg. 52 (1982), Heft 1, S. 23-41
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Annealing of Se-implanted GaAs with an oxygen-free CVD Si3N4 encapsulant.
    Inada, T.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 49 (1978-08-01), S. 4571-4573
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Permeation barrier performance of Hot Wire-CVD grown silicon-nitride films treated by argon plasma.
    Majee, S. ; Cerqueira, M.F. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 575 (2015-01-30), S. 72-75
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    DC, RF and noise performance of InAs/AlSb HEMTs with in situ CVD SiN x -film for early-protection against oxidation.
    Moschetti, Giuseppe ; Lefebvre, Eric ; et al.
    In: Solid-State Electronics, Jg. 87 (2013-09-01), S. 85-89
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Recent progress of Cat-CVD research in Japan—bridging between the first and second Cat-CVD conferences
    Matsumura, Hideki ; Umemoto, Hironobu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 430 (2003-04-22), Heft 1/2, S. 7-14
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Effect of argon ion energy on the performance of silicon nitride multilayer permeation barriers grown by hot-wire CVD on polymers.
    Alpuim, P. ; Majee, S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 595 (2015-11-29), S. 258-265
    academicJournal
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    ULVAC research and development of Cat-CVD applications
    Asari, Shin ; Fujinaga, Tetsushi ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-01-15), Heft 5, S. 541-544
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    A layer-by-layer Cat-CVD of conformal and stoichiometric silicon nitride with in-situ H2 post-treatment
    Kitazoe, Makiko ; Osono, Shuuji ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 501 (2006-04-20), Heft 1/2, S. 160-163
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Dry machining of silicon–aluminium alloys with CVD diamond brazed and directly coated Si3N4 ceramic tools
    Castro, G. ; Almeida, F.A. ; et al.
    In: Vacuum, Jg. 82 (2008-08-08), Heft 12, S. 1407-1410
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Deposition of device quality silicon nitride with ultra high deposition rate (>7 nm/s) using hot-wire CVD
    Verlaan, V. ; Houweling, Z.S. ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-01-15), Heft 5, S. 533-536
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Cat-CVD SiN passivation films for OLEDs and packaging
    Heya, Akira ; Minamikawa, Toshiharu ; et al.
    In: Thin Solid Films, Jg. 516 (2008-01-15), Heft 5, S. 553-557
    academicJournal
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