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    Electrical Properties of 4H-SiC CMOS with Wet Processed Gate Oxide : International conference on solid state devices and materials
    Okamoto, M. ; Yatsuo, T. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 1042-1043
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Current Reference Circuit for Subthreshold CMOS LSIs : International conference on solid state devices and materials
    Ueno, K. ; Asai, T. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 1000-1001
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Recent Progress in 'Beyond CMOS' Information Processing Technologies (Invited) : International conference on solid state devices and materials
    Bourianoff, G. ; Gargini, P.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 1020-1021
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low-Loss Magnetic Films of Ni-Zn Ferrite by Low-Temperature PVD Method for RF-CMOS Application : International conference on solid state devices and materials
    Kaneko, K. ; Inoue, N. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 896-897
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Interconnect and Packaging Technology for CMOS Image Sensors (Invited) : International conference on solid state devices and materials
    Gambino, J. ; Leidy, B. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 910-911
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Discrete Dopant Fluctuated Transient Behavior in 16-nm-Gate CMOS : International conference on solid state devices and materials
    Li, Y. ; Hwang, C.H. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 894-895
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Impacts of Random Dopant Fluctuation on Transient Characteristics in CMOS Inverters: A Device Simulation Study : International conference on solid state devices and materials
    Toriyama, S. ; Matsuzawa, K. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 892-893
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Comparison of Plasma Doping with Implant for High Performance SOI CMOS Fabrication : International conference on solid state devices and materials
    Lee, K.L. ; Lauer, I. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 878-879
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Evaluation of Threshold-Voltage Variation in Silicon on Thin BOX (SOTB) CMOS and its Impact on Decreasing Standby Leakage Current : International conference on solid state devices and materials
    Sugii, N. ; Tsuchiya, R. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 880-881
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Mitigation of CMOS Variability with Metal Gate : International conference on solid state devices and materials
    Yang, J.W. ; Park, C.S. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 866-867
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Low V~tMetal-Gate/High-k CMOS from Understanding the Mechanism to Innovative Solution (Invited) : International conference on solid state devices and materials
    Chin, A. ; Cheng, C.H. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 842-843
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Development of a CMOS Image Sensor for In-Situ Brain Functional Imaging in Freely-moving Mouse : International conference on solid state devices and materials
    Tagawa, A. ; Higuchi, A. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 746-747
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    CMOS Optical Polarization Analyzer Chip for μTAS : International conference on solid state devices and materials
    Minakawa, K. ; Yamada, H. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 750-751
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Method for Extracting RF Characteristics of CMOS-MEMS Inductors : International conference on solid state devices and materials
    Kuwabara, K. ; Ushiyama, K. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 728-729
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    New High-Voltage and Reliable RFLDMOS Fabricated with Standard Foundry CMOS Technology : International conference on solid state devices and materials
    Xiao, H. ; Huang, R. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 700-701
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Hot-Carrier AC Lifetime Enhancement due to Wire Resistance Effect (WRE) in 45nm CMOS Circuits : International conference on solid state devices and materials
    Mizuguchi, N. ; Takeuchi, K. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 696-697
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Thin-Metal Inserted Single-phase Ni-FUSI(MISF) and High-k Gate Stack for Productive LSTP CMOS Application : International conference on solid state devices and materials
    Yamamoto, Y. ; Nishida, Y. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 704-705
    Konferenz
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Implementation of Surface Acoustic Wave Vapor Sensor using CMOS Amplifiers : International conference on solid state devices and materials
    Chiu, C.S. ; Chang, G.C. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 654-655
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    A Low-voltage and Low-power Consumption CMOS Image Sensor using Pulse-width-modulation Scheme for Biomedical Applications : International conference on solid state devices and materials
    Shishido, S. ; Kagawa, K. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 644-645
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    An Optimal Design Method for Even-Stage Ring Oscillators with a CMOS Latch : International conference on solid state devices and materials
    Nakamura, K. ; Asano, M. ; et al.
    In: SOLID STATE DEVICES AND MATERIALS, 2008, S. 480-481
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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