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    Photo-CVD of dielectric materials by pseudo-continuous excimer sources [2045-26] : Laser-assisted fabrication of thin films and microstructures
    Bergonzo, P. ; Kogelschatz, U. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, , Heft E 2045, S. 174-183
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Simulation of SiC deposition in a hot wall CVD reactor [6984-97] : Thin film physics and applications
    Jia, W. ; Zhang, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6984 (2008), S. 6984 2Q
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD growth of Ge films on graded Si~1~-~xGe~x: C buffers [6984-93] : Thin film physics and applications
    Wang, R.H. ; Han, P. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6984 (2008), S. 6984 2M
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    New approach to formation of nanopore on SOI: SiC/Si heteroepitaxial growth by supersonic jet CVD (Invited Paper) [6984-66] : Thin film physics and applications
    Ikoma, Y. ; Ono, K. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6984 (2008), S. 6984 1V
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Effects of high magnetic field on the properties of hot-filament CVD diamond films [6984-65] : Thin film physics and applications
    Huang, J. ; Peng, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6984 (2008), S. 6984 1U
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Ellipsometric study of CVD diamond films prepared with various grain sizes [6984-44] : Thin film physics and applications
    Lou, Y. ; Wang, L. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- SPIE THE INTERNATIONAL SOCIETY FOR OPTICAL ENGINEERING, Jg. 6984 (2008), S. 6984 19
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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