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    The CVD of silver selenide films from dichalcogenophosphinato and imidodichalcogenodiphosphinatosilver(I) single-source precursors
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; NGUYEN, Chinh Q ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 3, S. 419-427
    Online academicJournal
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    Gas-phase loading of [Zn4O(btb)2] (MOF-177) with organometallic CVD-precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-177 and the formation of Cu and Pd nanoparticles inside MOF-177f
    MÜLLER, Maike ; LEBEDEV, Oleg I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 43, S. 5274-5281
    Online academicJournal
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    Deposition of Ru and RuO2 thin films employing dicarbonyl bis-diketonate ruthenium complexes as CVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1999-2006
    Online academicJournal
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    Fluorinated aminoalkoxide CuII complexes: new CVD precursors for deposition of copper metal
    YUN, CHI ; HSU, Peng-Fu ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3541-3550
    Online academicJournal
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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    The deposition of thin films of CuME2 by CVD techniques (M = In, Ga and E = S, Se)
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1942-1949
    Online academicJournal
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    Epitaxially grown GaN nanowire networks
    ZHEN, WU ; MYUNG GWAN, HAHM ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 4, S. 463-467
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of WO3 thin films using polyoxometallate precursors and their gas sensing properties
    ASHRAF, Sobia ; BLACKMAN, Christopher S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 11, S. 1063-1070
    Online academicJournal
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    Chemical vapour deposition of copper or silver from the precursors [M(hfac)(C≡NMe)][M=Cu, Ag; hfac=CF3C(O)CHC(O)CF3]
    YUAN, C ; DRYDEN, N. H ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 5 (1995), Heft 2, S. 303-307
    Online academicJournal
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    Deposition of ZrO2 and HfO2 thin films by liquid injection MOCVD and ALD using ansa-metallocene zirconium and hafnium precursors
    BLACK, Kate ; ASPINALL, Helen C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 38, S. 4561-4571
    Online academicJournal
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    Silicon onion-layer periodic three dimensional nanostructures
    BLANCO, Alvaro ; LOPEZ, Cefe
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 29, S. 2969-2971
    Online academicJournal
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    Doped and un-doped vanadium dioxide thin films prepared by atmospheric pressure chemical vapour deposition from vanadyl acetylacetonate and tungsten hexachloride : the effects of thickness and crystallographic orientation on thermochromic properties
    BINIONS, Russell ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 44, S. 4652-4660
    Online academicJournal
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    Aerosol assisted chemical vapour deposition of WO3 thin films from tungsten hexacarbonyl and their gas sensing properties
    ASHRAF, Sobia ; BLACKMAN, Christopher S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 35, S. 3708-3713
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of indium telluride thin films from {In(μ-Te)[N(iPr2PTe)2]}3
    GARJE, Shivram S ; COPSEY, May C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 46, S. 4542-4547
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    Aerosol-assisted metallo-organic chemical vapour deposition of Bi2Se3 films using single-molecule precursors. The crystal structure of bismuth(III) dibutyldiselenocarbamate
    MONTEIRO, Olinda C ; TRINDADE, Tito ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 12, S. 3006-3010
    Online academicJournal
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    Trialkylammonium salts of [M(SC{O}R)4]- (M = Ga3+ and In3+) as precursors for metal sulfide thin films
    DEIVARAJ, Theivanayagam C ; MING, LIN ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 5, S. 1149-1155
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of silver films from adducts of functionalised silver carboxylates
    EDWARDS, Dennis A ; MAHON, Mary F ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 3, S. 563-570
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    The X-ray single crystal structure of [Me2In(acac)]2 and its use as a single-source precursor for the deposition of indium oxide thin films
    PARK, Jin-Ho ; HORLEY, Graeme A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 9, S. 2346-2349
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    Synthesis and crystal structures of two new titanium alkoxy-diolate complexes. Potential precursors for oxide ceramics
    JONES, Anthony C ; WILLIAMS, Paul A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 5, S. 1428-1433
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    Crystal structure of a strontium-tantalum and a magnesium-niobium heterometal alkoxide : precursors for the MOCVD of ferroelectric oxides
    JONES, Anthony C ; DAVIES, Hywel O ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 2, S. 544-548
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