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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of WO3 thin films using polyoxometallate precursors and their gas sensing properties
    ASHRAF, Sobia ; BLACKMAN, Christopher S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 11, S. 1063-1070
    Online academicJournal
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    Silicon onion-layer periodic three dimensional nanostructures
    BLANCO, Alvaro ; LOPEZ, Cefe
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 29, S. 2969-2971
    Online academicJournal
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of indium telluride thin films from {In(μ-Te)[N(iPr2PTe)2]}3
    GARJE, Shivram S ; COPSEY, May C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 46, S. 4542-4547
    Online academicJournal
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    The X-ray single crystal structure of [Me2In(acac)]2 and its use as a single-source precursor for the deposition of indium oxide thin films
    PARK, Jin-Ho ; HORLEY, Graeme A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 9, S. 2346-2349
    Online academicJournal
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    Crystal structure of a strontium-tantalum and a magnesium-niobium heterometal alkoxide : precursors for the MOCVD of ferroelectric oxides
    JONES, Anthony C ; DAVIES, Hywel O ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 11 (2001), Heft 2, S. 544-548
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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