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17 Treffer

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    Fabrication of heteroepitaxial Si films on sapphire substrates using mesoplasma CVD : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Sawayanagi, M. ; Diaz, J. M. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 5592-5595
    Konferenz
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    Nano cluster assisted high rate epitaxy of silicon by mesoplasma CVD : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Kambara, M. ; Hamai, Y. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 5529-5532
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low temperature deposition of TiB2 by inductively coupled plasma assisted CVD : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Lee, S. H. ; Nam, K. H. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 5211-5215
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Influence of laser heating on adhesion of CVD coatings to cutting edges : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Kupczyk, M. ; Jozwiak, K. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 5153-5156
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    The study of diamond/TiC composite film by a DC-plasma–hot filament CVD : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Ding, F. ; Shi, Y.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 5050-5053
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Application of optical emission spectra in controlling dominant crystalline surface of diamond films deposited by DC arc plasma jet CVD : Asian-European international conference on plasma surface engineering(AEPSE 2005)
    Zhou, Z. Y. ; Chen, G. C. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 201 (2007), Heft NO 9/11, S. 4987-4990
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    CVD growth of cubic boron nitride: A theoretical/experimental approach : International conference on atomically controlled surfaces, interfaces and nanostructures
    Larsson, K.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 515 (2006), Heft NO 2, S. 401-406
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    GaN nanowires: CVD synthesis and properties : International conference on metallurgical coatings and thin films; ICMCTF 2006
    Cai, X. M. ; Djurisic, A. B. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 515 (2006), Heft 3, S. 984-989
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Growth of carbon nitride using microwave plasma CVD : Proceedings of the 4th Asian-European international conference on plasma surface engineering
    Sakamoto, Y. ; Takaya, M.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 475 (2005), Heft NO 1-2, S. 198-201
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Characterization of 4H-SiC grown on AlN/Si(100) by CVD : International conference on atomically controlled surfaces, interfaces and nanostructures
    Qin, Z. ; Han, P. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 515 (2006), Heft NO 2, S. 580-582
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Deposition of silicon oxynitride at room temperature by Inductively Coupled Plasma-CVD : International conference on atomically controlled surfaces, interfaces and nanostructures
    Zambom, L. d. S. ; Verdonck, P.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 515 (2006), Heft NO 2, S. 596-598
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Surface modification on 304 SS by plasma-immersed ion implantation to improve the adherence of a CVD diamond film : Plasma surface engineering
    Nono, M. C. A. ; Corat, E. J. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 112, Heft 1/3, S. 295-298
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Plasma-CVD of TiCN and ZrCN films on light metals : Plasma surface engineering
    Rie, K. T. ; Woehle, J.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 112, Heft 1/3, S. 226-229
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Plasma carbonitriding of cemented carbide substrate as an effective pretreatment process for diamond CVD : Plasma surface engineering
    Sato, T. ; Hosokawa, Y. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 112, Heft 1/3, S. 189-193
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Erosion resistance of CVD diamond-coated titanium alloy for aerospace applications : Plasma surface engineering
    Groegler, T. ; Zeiler, E. ; et al.
    In: SURFACE AND COATINGS TECHNOLOGY, Jg. 112, Heft 1/3, S. 129-132
    Konferenz
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    ECWR-Plasma CVD as a novel technique for phase controlled deposition of semiconductor films : Plasma surface engineering
    Oechsner, H. ; Scheib, M. ; et al.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 341, Heft 1/2, S. 101-104
    Konferenz
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    Properties of silicon oxide films deposited by plasma-enhanced CVD using organosilicon reactants and mass analysis in plasma : Plasma surface engineering
    Inoue, Y. ; Takai, O.
    In: THIN SOLID FILMS, Jg. 341, Heft 1/2, S. 47-51
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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