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452 Treffer

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    ECR plasma CVD in different magnetic field configurations
    MURATA, M ; UCHIDA, S ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 31 (1992), Heft 5A, S. 1499-1502
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Spectroscopic measurements of the production and the transport of CH radicals in a methane plasma used for the CVD of a-C:H
    TACHIBANA, K ; MUKAI, T ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 10, S. 2156-2164
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Tantalum oxide films formed by UV photo-CVD using ozone and TaCl5
    TANIMOTO, S ; MATSUI, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 3, S. L330- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Applicability of TiN adhesion layer formed by nitridation of sputtered Ti film to blanket CVD-W contact filling
    SHIH-CHANG, CHEN ; SAKAMOTO, A ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 32 (1993), Heft 5A, S. 1929-1933
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Effects of oxygen addition on diamond film growth by electron-cyclotron-resonance microwave plasma CVD apparatus
    NUNOTANI, M ; KOMORI, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 7A, S. L1199- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Energy band model of undoped a-Ge : H prepared by plasma CVD
    NAKASHITA, T ; INOUE, A ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 5, S. 820-823
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Josephson current in microbridges of YBa2Cu3O7-δ thin films prepared by CVD
    YAMASHITA, T ; ERA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 1, S. 74-78
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Deposition of diamond onto an aluminum substrate by DC plasma CVD
    NAKAO, S ; NODA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 8, S. 1511-1514
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Photo-CVD of Al2O3 thin films
    SARAIE, J ; SIN-FAT, NGAN
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 10, S. L1877- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Influence of chamber pressure on hydrogen bonding configurations in a-SiGe:H films prepared by photo-CVD
    ABHIJIT, DE ; GAUTAM, GANGULY ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 11, S. 2365-2370
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Formation of polysilicon films by catalytic chemical vapor deposition (cat-CVD) method
    MATSUMURA, H
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 30 (1991), Heft 8B, S. L1522- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Submillimeter-wave response of Nb-YBaCuO point-contact Josephson junctions using YBaCuO thin films prepared by CVD
    IMAI, S ; SUGAWARA, N ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 10, S. L1778- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Experimental fabrication of XMOS transistors using lateral solid-phase epitaxy of CVD silicon films
    ISHII, K ; HAYASHI, Y ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 4, S. L521- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    a-Si1-xOx:H films prepared by direct photo-CVD using CO2 gas
    OTSUBO, S ; SAITO, K ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 27 (1988), Heft 11, S. L1999- (4S.)
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Effects of applied magnetic fields on silicon oxide films formed by microwave plasma CVD
    FUKUDA, T ; SUZUKI, K ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 27 (1988), Heft 10, S. L1962- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Thermal stability of hydrogen in silicon nitride films prepared by ECR plasma CVD method
    HIRAO, T ; KAMADA, T ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 27 (1988), Heft 4, S. 528-533
    academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Plasma CVD of amorphous AlN from metalorganic Al sources and properties of the deposited films
    HASEGAWA, F ; TAKAHASHI, T ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 26 (1987), Heft 9, S. 1555-1560
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Microwave-excited plasma CVD of a-Si:H films utilizing a hydrogen plasma stream or by direct excitation of silane
    WATANABE, T ; TANAKA, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 26 (1987), Heft 8, S. 1215-1218
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Low temperature growth of SiO2 thin film by double-excitation photo-CVD
    INOUE, K ; MICHIMORI, M ; et al.
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 26 (1987), Heft 6, S. 805-811
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Photo-CVD direct patterning of silicon oxide films by optical projection
    SUZUKI, Y ; SHIN-OGI, M
    In: Japanese journal of applied physics, Jg. 29 (1990), Heft 8, S. L1517- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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