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    Low temperature and fast growth of one-directionally grown aluminum nitride film by atmospheric pressure halide CVD method
    Suzuki, Hisao ; Kawaguchi, Takahiko ; et al.
    In: Journal of the Ceramic Society of Japan, Jg. 127 (2019-09-01), Heft 9, S. 612-616
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    Influence of nitrogen gas over microstructural, vibrational and mechanical properties of CVD Titanium nitride (TiN) thin film coating
    Ranjan Kumar Ghadai ; Das, Soham ; et al.
    In: Ceramics International, Jg. 47 (2021-06-01), S. 16809-16819
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    Deposition of Boron-Doped Thin CVD Diamond Films from Methane-Triethyl Borate-Hydrogen Gas Mixture
    Nikolay Ivanovich Polushin ; Alexander Ivanovich Laptev ; et al.
    In: Processes, Jg. 8 (2020-06-01), Heft 666
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    Low temperature CVD of thermoelectric SnTe thin films from the single source precursor, [nBu3Sn(TenBu)]
    Curran, Peter J. ; Hardie, Duncan ; et al.
    In: Dalton Transactions, Jg. 50 (2021), S. 998-1006
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    In situ X-ray photoelectron spectroscopy study: effect of inert Ar sputter etching on the core-level spectra of the CVD-grown tri-layer MoS2 thin films
    K. Kamala Bharathi ; Navaneethan, M. ; et al.
    In: Journal of Materials Science: Materials in Electronics, Jg. 33 (2021-08-24), S. 8741-8746
    Online unknown
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    Role of Deposition Pressure on Properties of Phosphorus Doped Hydrogenated Nano-Crystalline Silicon (nc-Si:H) Thin Films Prepared by the Cat-CVD Method
    Doiphode, Vidya ; Jadkar, Sandesh ; et al.
    In: Recent Innovations in Chemical Engineering (Formerly Recent Patents on Chemical Engineering), Jg. 14 (2021-02-01), S. 46-57
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    Chemical vapour deposition (CVD) of nickel oxide using the novel nickel dialkylaminoalkoxide precursor [Ni(dmamp′)2] (dmamp′ = 2-dimethylamino-2-methyl-1-propanolate)
    Blackman, Christopher S. ; McLachlan, Martyn A. ; et al.
    In: RSC Advances, Jg. 11 (2021), S. 22199-22205
    Online unknown
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    CVD grown GaSbxN1−x films as visible-light active photoanodes
    Schleuning, Markus ; Sadlo, Alexander ; et al.
    In: Dalton Transactions, Jg. 50 (2021), S. 14832-14841
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    Analysis of morphological, microstructural, electrochemical and nano mechanical characteristics of TiCN coatings prepared under N2 gas flow rate by chemical vapour deposition (CVD) process at higher temperature
    Das, Soham ; Partha Protim Das ; et al.
    In: Ceramics International, Jg. 46 (2020-06-01), S. 10292-10298
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  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Electron energy loss spectroscopy and energy filtered transmission electron microscopy of hydrogenated nano-crystalline Si thin films deposited via hydrogen profiling during hot-wire CVD for application in photovoltaics
    Arendse, Christopher J. ; Cummings, Franscious ; et al.
    In: Materials Today: Proceedings, Jg. 36 (2021), S. 256-262
    Online unknown
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    Spectroscopic characterization of Ag catalyzed silicon carbide nanowires deposited via CVD reactor
    Swain, Bibhu P. ; Rizal, Umesh ; et al.
    In: Materials Today: Proceedings, Jg. 46 (2021), S. 6168-6173
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Morphological, Mechanical Property Analysis and Comparative Study over Structural Properties of CVD TiN Film Grown under Different Substrate Temperature in Nitrogen Gas Atmosphere
    Ranjan Kumar Ghadai ; Sharma, Ashis ; et al.
    In: Silicon, Jg. 14 (2020-11-07), S. 183-199
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    Passage of Fast Neutrons Through the Crystal Structure of Textured CVD Diamond
    Popovich, A. F. ; Kirsanov, M. A. ; et al.
    In: Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques, Jg. 14 (2020-03-01), S. 226-230
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    Carbon Nanotubes Obtained from Natural Gas by CVD
    Jabarov, Sakin H. ; Ibragimova, Z. M. ; et al.
    In: Journal of Surface Investigation: X-ray, Synchrotron and Neutron Techniques, Jg. 13 (2019-11-01), S. 1244-1247
    Online unknown
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    Optical and Electrical Properties of Diamond-Like Carbon Thin Film with Deposition by ECR-CVD System
    Srisantirut, Tanawit ; Pengchan, Weera
    In: Key Engineering Materials, Jg. 814 (2019-07-01), S. 47-52
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Luminescence study of Si/SiC nano-particles embedded in SiOxCy matrix deposited using O-Cat-CVD
    Santoyo-Salazar, Jaime ; Dutt, A. ; et al.
    In: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures, Jg. 111 (2019-07-01), S. 179-184
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    A novel precursor towards buffer layer materials: the first solution based CVD of zinc oxysulfide
    Carmalt, Claire J. ; Knapp, Caroline E. ; et al.
    In: Journal of Materials Chemistry C, Jg. 8 (2020), S. 5501-5508
    Online unknown
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    Epitaxial growth of bismuth oxyhalide thin films using mist CVD at atmospheric pressure
    Oka, Daichi ; Fukumura, Tomoteru ; et al.
    In: Chemical Communications, Jg. 56 (2020), S. 9481-9484
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    Yttria-Coated Tungsten Fibers for Use in Tungsten Fiber-Reinforced Composites: A Comparative Study on PVD vs. CVD Routes
    Trautmann, Maik ; Neu, Rudolf ; et al.
    2021
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    Effect of Growth Temperature on Physical Properties of MoS2 Thin Films Synthesized by CVD
    Mohammad Reza Hantehzadeh ; Ardahe, Mahnoosh ; et al.
    In: Journal of Electronic Materials, Jg. 49 (2019-12-03), S. 1002-1008
    Online unknown
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