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    AFM study of the surface morphology of L-CVD SnO2 thin films
    KWOKA, M ; OTTAVIANO, L ; et al.
    In: Thin solid films, Jg. 515 (2007), Heft 23, S. 8328-8331
    Konferenz
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    Hot-wire CVD growth simulation for thickness uniformity
    SALI, Jaydeep V ; PATIL, S. B ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 66-70
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Influence of gas supply and filament geometry on the large-area deposition of amorphous silicon by hot-wire CVD
    LEDERMANN, Andrea ; WEBER, Urban ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 61-65
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    Charge-trapping defects in Cat-CVD silicon nitride films
    UMEDA, T ; MOCHIZUKI, Y ; et al.
    In: Proceedings of the First International Conference on Cat-CVD (Hot-Wire CVD) Process, Kanazawa, Japan, November 14-17, 2000, Jg. 395 (2001), Heft 1-2, S. 266-269
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Substrate influence on the properties of doped thin silicon layers grown by Cat-CVD
    SOLER, D ; FONRODONA, M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 157-160
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Small-angle neutron scattering studies of hot-wire CVD a-Si:H
    WILLIAMSON, D. L ; MARR, D. W. M ; et al.
    In: Proceedings of the Second International Conference on Cat-CVD (Hot Wire CVD) Process, Denver, Colorado, USA, September 10-13, 2002, Jg. 430 (2003), Heft 1-2, S. 192-196
    Konferenz
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    Growth and characterization of near-atomically flat, thick homoepitaxial CVD diamond films
    BOGDAN, G ; NESLADEK, M ; et al.
    In: Physica status solidi. A. Applied research, Jg. 202 (2005), Heft 11, S. 2066-2072
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    Microstructure stability and evolution in CVD carbonyl Ni materials upon annealing - Grain growth and detwinning process
    CHICHI, CHEN ; JING, LIU ; et al.
    In: Materials science & engineering. A, Structural materials : properties, microstructure and processing, Jg. 558 (2012), S. 285-297
    academicJournal
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    Investigation of TiO2-doped HfO2 thin films deposited by photo-CVD
    FANG, Q ; ZHANG, J.-Y ; et al.
    In: Proceedings of Symposium J on Growth and Evolution of Ultra Thin Films: Surface and Interface Geometric & Electronic Structure, Jg. 428 (2003), Heft 1-2, S. 263-268
    Konferenz
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    Improved aluminide/MCrAlX coating systems for super alloys using CVD low activity aluminizing
    WARNES, Bruce Michael
    In: Proceedings of the 29th International Conference on Metallurgic Coatings and Thin Films, San Diego, California, April 22-26, 2002, Jg. 163-64 (2003), S. 106-111
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Large thickness-dependent improvement of crystallographic texture of CVD silicon films on R-sapphire
    MOYZYKH, M ; SAMOILENKOV, S ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 383 (2013), S. 145-150
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Influence of copper crystal surface on the CVD growth of large area monolayer graphene
    ZHAO, L ; RIM, K. T ; et al.
    In: Solid state communications, Jg. 151 (2011), Heft 7, S. 509-513
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    The deposition and characterisation of CVD tungsten silicide for applications in microelectronics
    BAIN, M. F ; ARMSTRONG, B. M ; et al.
    In: The Fourth Iberian Vaccum Meeting, IV IVM-IV RIVA, Jg. 64 (2002), Heft 3-4, S. 227-232
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Lithium niobate-tantalate thin films on Si by thermal plasma spray CVD
    KULINICH, S. A ; YAMAMOTO, H ; et al.
    In: Proceedings of the 14th symposium on plasma science for materials (SPSM14), Tokyo, Japan, 13-14 June 2001, Jg. 407 (2002), Heft 1-2, S. 60-66
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Influence of different carbon source gases on preparation and properties of a-Si1-XCX:H alloy films including μc-Si:H by hot-wire CVD
    ITOH, T ; FUJIWARA, T ; et al.
    In: Proceedings of the 19th international conference on amorphous and microcrystalline semiconductors - science and technology (ICAMS 19), Nice, France, August 27-31, 2001. Part B, Jg. 299302 (2002), S. 880-884
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Electron microscopic characterization of microcrystalline silicon thin films deposited by ECR-CVD
    SIEBER, I ; WANDERKA, N ; et al.
    In: Proceeding of Symposium P on Thin Film Materials for Photovoltaics, E-MRS Spring Conference, Strasbourg, France, June 5-8, 2001, Jg. 403-04 (2002), S. 543-548
    Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Effect of post-CVD thermal treatments on crystallographic orientation, microstructure, mechanical and optical properties of ZnS ceramics
    BISWAS, P ; SENTHIL KUMAR, R ; et al.
    In: Journal of alloys and compounds, Jg. 496 (2010), Heft 1-2, S. 273-277
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    LiNb1-xTaxO3 films prepared by thermal plasma spray CVD
    YAMAMOTO, Hironori ; KULINICH, Sergei A ; et al.
    In: Proceedings of the 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Science & Technology and the 13th Symposium on Plasma Science for Materials, Dalian, China, 10-13 September, 2000, Jg. 390 (2001), Heft 1-2, S. 1-6
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Growth of ZnOx:Al by high-throughput CVD at atmospheric pressure
    ILLIBERI, A ; SIMONS, P. J. P. M ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 347 (2012), Heft 1, S. 56-61
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    ZnO thin films prepared by remote plasma-enhanced CVD method
    HAGA, K ; KAMIDAIRA, M ; et al.
    In: Proceedings of the 9th international conference on II-VI compounds, Kyoto, Japan, 1-5 November 1999, Jg. 214-15 (2000), S. 77-80
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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