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    The CVD of silver selenide films from dichalcogenophosphinato and imidodichalcogenodiphosphinatosilver(I) single-source precursors
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; NGUYEN, Chinh Q ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 3, S. 419-427
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    The CVD of silver sulfide and silver thin films from a homoleptic crystalline single-source precursor
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; MALIK, Mohammad A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 27, S. 3264-3269
    Online academicJournal
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    Deposition of Ru and RuO2 thin films employing dicarbonyl bis-diketonate ruthenium complexes as CVD source reagents
    LAI, Ying-Hui ; CHEN, Yao-Lun ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1999-2006
    Online academicJournal
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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    The deposition of thin films of CuME2 by CVD techniques (M = In, Ga and E = S, Se)
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1942-1949
    Online academicJournal
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    CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications
    YUSTA, F. J ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 8, S. 1421-1427
    Online academicJournal
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    Remote hydrogen-nitrogen plasma chemical vapor deposition from a tetramethyldisilazane source. Part 1. Mechanism of the process, structure and surface morphology of deposited amorphous hydrogenated silicon carbonitride films
    WROBEL, A. M ; BŁASZCZYK, I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 4, S. 731-737
    Online academicJournal
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    Growth of thin layers of metal sulfides by chemical vapour deposition using dual source and single source precursors : routes to Cr2S3, α-MnS and FeS
    ALMOND, Matthew J ; REDMAN, Helen ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 10 (2000), Heft 12, S. 2842-2846
    Online academicJournal
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    Aerosol-assisted chemical vapour deposition of WO3 thin films using polyoxometallate precursors and their gas sensing properties
    ASHRAF, Sobia ; BLACKMAN, Christopher S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 11, S. 1063-1070
    Online academicJournal
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    Area-selective growth of ruthenium dioxide nanorods on LiNbO3(100) and Zn/Si substrates
    WANG, Ginny ; HSIEH, Chih-Sung ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 14 (2004), Heft 24, S. 3503-3508
    Online academicJournal
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    Chemical vapour deposition of copper or silver from the precursors [M(hfac)(C≡NMe)][M=Cu, Ag; hfac=CF3C(O)CHC(O)CF3]
    YUAN, C ; DRYDEN, N. H ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 5 (1995), Heft 2, S. 303-307
    Online academicJournal
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    Growth of nanowires of β-NaxV2O5 by metalorganic chemical vapor deposition
    SAHANA, M. B ; SHIVASHANKAR, S. A
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 9, S. 2254-2260
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    Chemical vapor deposition of tantalum carbide and carbonitride thin films from Me3CE=Ta(CH2CMe3)3 (E = CH, N)
    CHANG, Yu-Hsu ; WU, Jin-Bao ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 2, S. 365-369
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    Microstructure and properties of VO2 thin films deposited by MOCVD from vanadyl acetylacetonate
    SAHANA, M. B ; DHARMAPRAKASH, M. S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 2, S. 333-338
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    Low temperature chemical vapour deposition of ruthenium and ruthenium dioxide on polymer surfaces
    SANKAR, J ; SHAM, T. K ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 9 (1999), Heft 10, S. 2439-2444
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    Polymeric complexes as building blocks for rapid fabrication of layer-by-layer assembled multilayer films and their application as superhydrophobic coatings
    XIAOKONG, LIU ; BOYA, DAI ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 4, S. 497-504
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    Combinatorial atmospheric pressure chemical vapour deposition (cAPCVD) of a mixed vanadium oxide and vanadium oxynitride thin film
    KAFIZAS, Andreas ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 10, S. 1399-1408
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    Formation of antimony sulfide powders and thin films from single-source antimony precursors
    RODRIGUEZ CASTRO, Jorge ; MOTLEY, Kieran C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 44, S. 5399-5405
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    Doped and un-doped vanadium dioxide thin films prepared by atmospheric pressure chemical vapour deposition from vanadyl acetylacetonate and tungsten hexachloride : the effects of thickness and crystallographic orientation on thermochromic properties
    BINIONS, Russell ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 44, S. 4652-4660
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    Aerosol assisted chemical vapour deposition of WO3 thin films from tungsten hexacarbonyl and their gas sensing properties
    ASHRAF, Sobia ; BLACKMAN, Christopher S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 35, S. 3708-3713
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