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    RuO2 films by metal-organic chemical vapor deposition
    JIE, SI ; DESU, S. B
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 10, S. 2644-2648
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Quantitative nucleation and growth studies of PACVD diamond film formation on (100) silicon
    BAUER, R. A ; SBROCKEY, N. M ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 11, S. 2858-2869
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Preparation and comparison of YBa2Cu4O8 films on MgO(100) and SrTiO3(100) by MOCVD
    SAKAI, H ; SHIOHARA, Y ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 9, S. 2143-2149
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Low pressure chemical vapor deposition (LPCVD) of β-Sic on Si(100) using MTS in a hot wall reactor
    CHIU, C. C ; DESU, S. B ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 10, S. 2617-2626
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Identification of hydrocarbon precursors to diamond in chemical vapor deposition using carbon monoxide reagent
    JOHNSON, C. E ; WEIMER, W. A
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 9, S. 2245-2249
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Epitaxy, microstructure, and processing-structure relationships of TiO2 thin film grown on sapphire (0001) by MOCVD
    CHANG, H. L. M ; ZHANG, T. J ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 10, S. 2634-2643
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Characterization of the mechanical properties of a-SiC:H films
    LOBODA, M. J ; FERBER, M. K
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 11, S. 2908-2915
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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