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    Trends in precursor design for conventional l and aerosol-assisted CVD of High-Tc superconductors
    HUBERT-PFALZGRAF, L. G ; GUILLON, H
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 221-236
    Online academicJournal
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    CVD of CeO2-Doped Y2O3-Stabilized zirconia onto dense and porous substrates
    SIADATI, M. H ; WARD, T. L ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 9 (1997), Heft 14, S. 311-317
    Online academicJournal
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    Metal-organic CVD of the high-Tc superconductor YBa2Cu3O7-δ
    WATSON, I. M
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 9 (1997), Heft 2, S. 9-26
    Online academicJournal
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    The influence of Fe-group metals on the CVD of titanium carbide
    KONYASHIN, I. Y
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 9, S. 199-208
    Online academicJournal
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    CVD of covalent compounds and high-Tc superconductors
    GOMEZ-ALEIXANDRE, C ; SANCHEZ, O ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 7 (1995), Heft 2, S. 111-119
    Online academicJournal
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    CVD routes to titanium disulfide films
    SUREN LEWKEBANDARA, T ; WINTER, C. H
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 6 (1994), Heft 3, S. 237-239
    Online academicJournal
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    Evaluation of the simultaneous use of Cp2VMe2 and CpTiCl2N(SiMe3)2 as precursors to ceramic thin films containing titanium and vanadium : Towards titanium-vanadium carbonitride
    VALADE, L ; DANJOY, C ; et al.
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 173-187
    Online academicJournal
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    Processing and properties of (Mo, Cr) oxycarbides from MOCVD
    WEI, W.-C. J ; LO, M.-H
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 201-220
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Chemical vapor deposition of tungsten oxide
    KIRSS, R. U ; MEDA, L
    In: Thin film processing by chemical vapour deposition, Jg. 12 (1998), Heft 3, S. 155-160
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Fabrication of polycrystalline LaAlO3 films on Si(100) : An MOCVC application of the second-generation La(hfa)3.diglyme precursor
    MALANDRINO, G ; FRASSICA, A ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 9 (1997), Heft 14, S. 306-309
    Online academicJournal
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    Structural properties of yttria-stabilized zirconia films grown on silicon (001) using MOCVD
    GARCIA, G ; CASADO, J ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 9 (1997), Heft 4, S. 91-96
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    New materials for superconducting electronics : Epitaxial growth of LaSrGaO4 and PrSrGaO4 dielectric thin films by MOCVD
    BELOT, J. A ; HINDS, B. J ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 9 (1997), Heft 4, S. 78-81
    Online academicJournal
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    Thermodynamic approach to the OMCVD of titanium carbide from titanocene dichloride
    SLIFIRSKI, J ; TEYSSANDIER, F
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 11, S. 247-251
    Online academicJournal
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    The synthesis and thermal evaluation of a novel cerium precursor to grow thick ceria films by metal-organic chemical vapor deposition (MOCVD)
    MCALEESE, J ; DARR, J. A ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 11, S. 244-247
    Online academicJournal
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    Thin film growth and microstructure analysis of CeO2 prepared by MOCVD
    BECHT, M ; MARISHITA, T
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 9, S. 191-197
    Online academicJournal
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    Preparation of copper sulfide thin layers by a single-source MOCVD process
    NOMURA, R ; MIYAWAKI, K ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 9, S. 174-178
    Online academicJournal
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Low temperature, aerosol-assisted chemical vapor deposition (AACVD) of CdS, ZnS, and Cd1-xZnxS using monomeric single-source precursors: M(SOCCH3)2TMEDA
    NYMAN, M ; HAMPDEN-SMITH, M. J ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 8 (1996), Heft 9, S. 171-174
    Online academicJournal
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    Chemical vapor deposition of metal borides, 4 : The application of polyhedral boron clusters to the chemical vapor deposition formation of gadolinium boride thin-film materials
    KHER, S. S ; TAN, Y ; et al.
    In: Applied organometallic chemistry, Jg. 10 (1996), Heft 3-4, S. 297-304
    Online academicJournal
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    Plasma enhanced chemical vapor deposition of vanadium carbide VC1-x and VOx from vanadocene Cp2V
    DEUTSCHMANN, L ; MESSELHÄUSER, J ; et al.
    In: Advanced materials (Weinheim), Jg. 6 (1994), Heft 5, S. 392-395
    Online academicJournal
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    A kinetic model for the growth of ZnTe by metal organic chemical vapour deposition
    DUMONT, H ; QU'HEN, B ; et al.
    In: Applied organometallic chemistry, Jg. 8 (1994), Heft 2, S. 87-93
    Online academicJournal
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    Wie komme ich dran?
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