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    Extending Planar Single-Gate CMOS & Accelerating the Realization of Double-Gate/Multi-Gate CMOS Devices : ULSI process integration
    Borland, J. O. ; Iwai, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 330-348
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Compatibility of Polysilicon with HfO~2-based Gate Dielectrics for CMOS Applications : ULSI process integration
    Kaushik, V. ; De Gendt, S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 391-396
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Extremely Scaled Ultra-Thin Body and FinFET CMOS Devices : ULSI process integration
    Balasubramanion, S. ; Chang, L. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 534-545
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    60-nm Gate Length SOI CMOS Technology Optimized for 'System-on-a-SOI-Chip' Solution : ULSI process integration
    Imai, K. ; Maruyama, S. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 493-502
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Si Channel Surface Dependence of Electrical Characteristics in Ultra-Thin Gate Oxide CMOS : ULSI process integration
    Momose, H. S.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 361-374
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Emerging Device Solutions for the Post-Classical CMOS Era : ULSI process integration
    De Meyer, K. ; Collaert, N. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 291-305
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Transistor Design Methodology for Low Power CMOS Microprocessors : ULSI process integration
    Buller, J. F. ; Cheek, J. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 289-296
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    SiGe HBT/CMOS Technology for RF and High-Speed Digital Applications : ULSI process integration
    Washio, K.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 155-164
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    SOI for CMOS Logic and Memory Applications : ULSI process integration
    Sadana, D. K.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 474-488
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Device Challenges for Sub-150 nm CMOS : ULSI process integration
    Woo, J. C. S.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 489-494
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    L-Shape Spacer Architecture for Low Cost, High Performance CMOS : ULSI process integration
    Augendre, E. ; Perello, C. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 297-304
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Fabrication of High Quality MOS Structures with SiGe Buried Channels for CMOS Applications : ULSI process integration
    Kar, S. ; Zaumseil, P.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 178-189
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Process Technologies for Sub-100 nm CMOS Devices : ULSI process integration
    Wakabayashi, H. ; Ueki, M. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2 (2001), S. 34-49
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Precision Resistor Integration into a Submicron Silicided CMOS Technology : ULSI process integration
    Miles, G. L. ; Grellner, F. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 353-360
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Poly Gate Depletion Effect on Deep Submicrometer CMOS : ULSI process integration
    Ye, Q. ; Limb, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 301-310
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Wsi/WsiN/Poly:Si Gate CMOS Technology for 1.0 V DSPs : ULSI process integration
    Kizilyalli, I. ; Radosevich, J. R. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 347-352
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    An Advanced Well Structure to Improve Latch-Up Immunity for CMOS Technology : ULSI process integration
    Puchner, H. ; Strelkova, N. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 281-290
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Mainstreaming SOI Technology for High Performance CMOS : ULSI process integration
    Shahidi, G. G.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 267-274
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    0.13 mum CMOS Technology with Optimized Poly-Si/No-Oxide Gate Stack : ULSI process integration
    Kubicek, S. ; Jansen, P. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 193-202
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Challenges of Process Integration in Silicon-Based CMOS Technologies : ULSI process integration
    Nishi, Y.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 99-18 (1999), S. 3-10
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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