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    Electric-Field Aerosol-Assisted CVD: Synthesis, Characterization, and Properties of Tin Oxide Microballs Prepared from a Single Source Precursor
    Wan Jefrey Basirun ; K. G. Upul Wijayantha ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2015-11-12), S. 360-368
    Online unknown
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    Highly Photocatalytically Active Iron(III) Titanium Oxide Thin films via Aerosol-Assisted CVD
    Al-Thabaiti, Shaeel A. ; Bawaked, Salem M. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 21 (2014-11-20), S. 21-25
    Online unknown
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    Deposition of Thin Copper Layers using Copper(II) Carboxylate Complexes withtert-Butylamine as New CVD Precursors
    Szymańska, Iwona ; Heimann, Janusz ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-08-07), S. 251-259
    Online unknown
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  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    CO2-Laser Flash Evaporation as Novel CVD Precursor Delivery System for Functional Thin Film Growth
    Djenadic, Ruzica ; Darbandi, Azad J. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-05-16), S. 152-160
    Online unknown
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    Thermal- and Plasma-Enhanced Copper Film Deposition via a Combined Synthesis-Transport CVD Technique
    Polyakov, Maxim S. ; Igumenov, Igor K. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-05-08), S. 170-176
    Online unknown
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    Combinatorial Atmospheric Pressure CVD of a Composite TiO2/SnO2Thin Film
    Ponja, Sapna D. ; Bhachu, Davinder S. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2014-02-21), S. 69-79
    Online unknown
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    Design Strategies for Reduced-scale Surface Composition Gradients via CVD Copolymerization
    Ross, Aftin M. ; Krebsbach, Paul H. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 20 (2013-11-18), S. 23-31
    Online unknown
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  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    New Liquid Precursors for the Metal-organic CVD of Gold Films
    Turgambaeva, Asiya E. ; Morozova, Natalia B. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 19 (2013-02-12), S. 38-44
    Online unknown
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  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Silicon-Included Graphite Films Prepared by Thermally Induced CVD with a (C6F5)4Si Precursor
    Zelenina, Ludmila N. ; Bakovets, V. V. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 18 (2012-05-07), S. 166-172
    Online unknown
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    The Influence of In/Cu Ratio on Electrical Properties of CuO:In Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced CVD
    Hao, Y. ; Gong, Hao
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 14 (2008-02-01), S. 9-13
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Highly Dispersed MoO3/Al2O3 Shell-Core Composites Synthesized by CVD of Mo(CO)6 under Atmospheric Pressure
    Shi, Guojun ; Miguel Dario Sanchez ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 17 (2011-05-26), S. 162-169
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    CVD of Zr0.65Ti0.35O2 Thin Films Using a Single-Source Precursor of Novel Anhydrous Mixed-Metal Nitrates
    Zhang, Wen-Qi ; Li, Aidong ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-07-01), S. 423-428
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Characterization of Silver Trimethylacetate Complexes with Tertiary Phosphines as CVD Precursors of Thin Silver Films
    Bala, Waclaw ; Szłyk, Edward ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 11 (2005), S. 53-59
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Hybrid Aerosol Assisted and Atmospheric Pressure CVD of Gold-Doped Vanadium Dioxide
    Binions, Russell ; Piccirillo, Clara ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 14 (2008-02-01), S. 33-39
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Study of Magnesium Boride Films Obtained From Mg(BH4)2 by CVD
    Kaciulis, Saulius ; El-Habra, N. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-08-01), S. 414-419
    Online unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Functional Metal Oxide Nanosystems by a Hybrid CVD/Sol–Gel Approach
    Armelao, Lidia ; Bottaro, Gregorio ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007-03-01), S. 112-117
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    The Synthesis of ZrO2/SiO2 Nanocomposites by the Two-Step CVD of a Volatile Halogen-Free Zr Alkoxide in a Fluidized-Bed Reactor
    Kasper, Gerhard ; Devi, Anjana ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 13 (2007), S. 37-41
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Plasma Characterization of Oxygen-Tetramethylsilane Mixtures for the Plasma-Enhanced CVD of SiOxCyHz Thin Films
    Barranco, Angel ; González-Elipe, Agustín R. ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-12-01), S. 728-735
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Monitoring of an Interlayer Between Si(100) and a TiO2 Layer Formed During Cyclic CVD
    Jeong Chan Kim ; Jung Shik Heo ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-11-01), S. 659-664
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    New Precursors for the CVD of Zirconium and Hafnium Oxide Films
    Lehn, Jean-Sébastien M. ; Javed, Saba ; et al.
    In: Chemical Vapor Deposition, Jg. 12 (2006-05-01), S. 280-284
    Online unknown
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