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    P-77: Novel and Highly Reliable XeF and KrF Excimer Laser Annealing for Reducing the Cost of Flat Panel Display Equipment.
    Imokawa, Kaname ; Tanaka, Satoshi ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 48 (2017-05-01), Heft 1, S. 1532-1535
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    Wie komme ich dran?
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    Super Low Temperature Doping of Phosphorus to Poly-Si Thin Films Using XeF Excimer Laser Irradiation in Phosphoric Acid Solution.
    Suwa, Akira ; Ikenoue, Hiroshi ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 47 (2016-05-01), Heft 1, S. 1206-1208
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
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    30-4: Characterization of Si Thin Films Doped by Wet-Chemical Laser Processing.
    Suwa, Akira ; Tanaka, Nozomu ; et al.
    In: SID Symposium Digest of Technical Papers, Jg. 48 (2017-05-01), Heft 1, S. 430-432
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext (PDF)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
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