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    The CVD of silver selenide films from dichalcogenophosphinato and imidodichalcogenodiphosphinatosilver(I) single-source precursors
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; NGUYEN, Chinh Q ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 3, S. 419-427
    Online academicJournal
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    Gas-phase loading of [Zn4O(btb)2] (MOF-177) with organometallic CVD-precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-177 and the formation of Cu and Pd nanoparticles inside MOF-177f
    MÜLLER, Maike ; LEBEDEV, Oleg I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 43, S. 5274-5281
    Online academicJournal
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    The CVD of silver sulfide and silver thin films from a homoleptic crystalline single-source precursor
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; MALIK, Mohammad A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 27, S. 3264-3269
    Online academicJournal
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    Loading of porous metal-organic open frameworks with organometallic CVD precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-5
    HERMES, Stephan ; SCHRÖDER, Felicitas ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 25, S. 2464-2472
    Online academicJournal
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    Fluorinated aminoalkoxide CuII complexes: new CVD precursors for deposition of copper metal
    YUN, CHI ; HSU, Peng-Fu ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 12, S. 3541-3550
    Online academicJournal
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    Deposition of osmium thin films using pyrazolate complexes as CVD source reagents
    YUN, CHI ; YU, Huan-Li ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 12 (2002), Heft 5, S. 1363-1369
    Online academicJournal
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    The deposition of thin films of CuME2 by CVD techniques (M = In, Ga and E = S, Se)
    PARK, Jin-Ho ; AFZAAL, Mohammad ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 8, S. 1942-1949
    Online academicJournal
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    The synthesis, X-ray structures and CVD studies of some group 11 complexes of iminobis(diisopropylphosphine selenides) and their use in the deposition of I/III/VI photovoltaic materials
    AFZAAL, Mohammad ; CROUCH, David J ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 14 (2004), Heft 2, S. 233-237
    Online academicJournal
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    Tantalum(v) diethylamide, [Ta(NEt2)5] : a potentially important and crystalline precursor for the CVD of oxides containing tantalum
    DAVIES, Hywel O ; JONES, Anthony C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 23, S. 2226-2228
    Online academicJournal
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    CVD preparation and characterization of tin dioxide films for electrochemical applications
    YUSTA, F. J ; HITCHMAN, M. L ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 7 (1997), Heft 8, S. 1421-1427
    Online academicJournal
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    Chemical vapour deposition of copper or silver from the precursors [M(hfac)(C≡NMe)][M=Cu, Ag; hfac=CF3C(O)CHC(O)CF3]
    YUAN, C ; DRYDEN, N. H ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 5 (1995), Heft 2, S. 303-307
    Online academicJournal
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    Growth of nanowires of β-NaxV2O5 by metalorganic chemical vapor deposition
    SAHANA, M. B ; SHIVASHANKAR, S. A
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 9, S. 2254-2260
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    Synthesis and characterization of fluorinated β-ketoiminate and imino-alcoholate Pd complexes: precursors for palladium chemical vapor deposition
    LIU, Yan-Hsiu ; CHENG, Yi-Ching ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 13 (2003), Heft 1, S. 135-142
    Online academicJournal
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    Epitaxial growth of hierarchical PbS nanowires
    LAU, Y. K. Albert ; CHERNAK, Davin J ; et al.
    In: Inorganic nanotubes and nanowires, Jg. 19 (2009), Heft 7, S. 934-940
    Online academicJournal
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    Combinatorial atmospheric pressure chemical vapour deposition (cAPCVD) of a mixed vanadium oxide and vanadium oxynitride thin film
    KAFIZAS, Andreas ; HYETT, Geoffrey ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 10, S. 1399-1408
    Online academicJournal
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    Novel carbon nanostructures of caterpillar-like fibers and interwoven spheres with excellent surface super-hydrophobicity produced by chemical vapor deposition
    HIMA, Halidou I ; XU, XIANG ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 11, S. 1245-1252
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    H2S modified atomic layer deposition process for photocatalytic TiO2 thin films
    PORE, Viljami ; RITALA, Mikko ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 17 (2007), Heft 14, S. 1361-1371
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    Liquid injection ALD and MOCVD of lanthanum aluminate using a bimetallic alkoxide precursor
    GASKELL, Jeffrey M ; JONES, Anthony C ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 39, S. 3854-3860
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    La2S3 thin films from metal organic chemical vapor deposition of single-source precursor
    LU, TIAN ; TI, OUYANG ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 3, S. 272-277
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    Chemical vapour deposition of II-VI semiconductor thin films using M[(TePiPr2)2N]2 (M = Cd, Hg) as single-source precursors
    GARJE, Shivram S ; RITCH, Jamie S ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 16 (2006), Heft 10, S. 966-969
    Online academicJournal
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