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    LiNb1-xTaxO3 films prepared by thermal plasma spray CVD
    YAMAMOTO, Hironori ; KULINICH, Sergei A ; et al.
    In: Proceedings of the 5th Asia-Pacific Conference on Plasma Science & Technology and the 13th Symposium on Plasma Science for Materials, Dalian, China, 10-13 September, 2000, Jg. 390 (2001), Heft 1-2, S. 1-6
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Aerosol-assisted CVD of antimony sulfide from antimony dithiocarbamates
    RODRIGUEZ-CASTRO, Jorge ; MAHON, Mary F ; et al.
    In: Special issue on aerosol-assisted CVD, Jg. 12 (2006), Heft 10, S. 601-607
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    The CVD of silver selenide films from dichalcogenophosphinato and imidodichalcogenodiphosphinatosilver(I) single-source precursors
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; NGUYEN, Chinh Q ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 19 (2009), Heft 3, S. 419-427
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    CVD of Copper Oxides from a β-Diketonate Diamine Precursor: Tailoring the Nano-Organization
    BARRECA, Davide ; GASPAROTTO, Alberto ; et al.
    In: Crystal growth & design, Jg. 9 (2009), Heft 5, S. 2470-2480
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Deposition of Ni and Pd sulfide thin films via aerosol-assisted CVD
    O'BRIEN, Paul ; WATERS, John
    In: Special issue on aerosol-assisted CVD, Jg. 12 (2006), Heft 10, S. 620-626
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    CVD of Zr0.65Ti0.35O2 thin films using a single-source precursor of novel anhydrous mixed-metal nitrates
    QIYUE, SHAO ; AIDONG, LI ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 7, S. 423-428
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    High growth rate 4H-SiC epitaxial growth using dichlorosilane in a hot-wall CVD reactor
    CHOWDHURY, Iftekhar ; CHANDRASEKHAR, M. V. S ; et al.
    In: Journal of crystal growth, Jg. 316 (2011), Heft 1, S. 60-66
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Simple CVD routes towards infiltration of mesoporous TiO2
    WATERS, John P ; SMYTH-BOYLE, David ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 5, S. 254-260
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Full Text Finder (Volltext)
    Wie komme ich dran?
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    CVD with tri-nbutylphosphine silver(I) complexes : Mass spectrometric investigations and depositions
    HAASE, Thomas ; KOHSE-HÖINGHAUS, Katharina ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 4, S. 195-205
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Characterization of silver trimethylacetate complexes with tertiary phosphines as CVD precursors of thin silver films
    PISZCZEK, Piotr ; SZŁYK, Edward ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 1, S. 53-59
    Online academicJournal
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    Synthesis and characterization of tris(β-ketoiminato)ruthenium(III) complexes: Potential precursors for CVD of Ru and RuO2 thin films
    CHOU, Tsung-Yi ; LAI, Ying-Hui ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 10 (2004), Heft 3, S. 149-158
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Utilization of iron oxide film obtained by CVD process as catalyst to carbon nanotubes growth
    SCHNITZLER, Mariane C ; ZARBIN, Aldo J. G
    In: Journal of solid state chemistry (Print), Jg. 182 (2009), Heft 10, S. 2867-2872
    academicJournal
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    Synthesis and characterization of Ni and Ni/CrN nanocomposite coatings by plasma assisted metal-organic CVD
    PREMKUMAR, Peter Antony ; DASGUPTA, Arup ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 1, S. 39-45
    academicJournal
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    Atmospheric pressure CVD of TiSe2 thin films on glass
    BOSCHER, Nicolas D ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 1, S. 54-58
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Atmospheric pressure CVD of molybdenum diselenide films on glass
    BOSCHER, Nicolas D ; CARMALT, Claire J ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 12 (2006), Heft 11, S. 692-698
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Gas-phase loading of [Zn4O(btb)2] (MOF-177) with organometallic CVD-precursors : inclusion compounds of the type [LnM]a@MOF-177 and the formation of Cu and Pd nanoparticles inside MOF-177f
    MÜLLER, Maike ; LEBEDEV, Oleg I ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 43, S. 5274-5281
    Online academicJournal
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    The CVD of silver sulfide and silver thin films from a homoleptic crystalline single-source precursor
    PANNEERSELVAM, Arunkumar ; MALIK, Mohammad A ; et al.
    In: Journal of material chemistry, Jg. 18 (2008), Heft 27, S. 3264-3269
    Online academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Mechanism of ni film CVD with a Ni(Ktfaa)2 precursor on a silicon substrate
    BAKOVETS, Vladimir V ; MITKIN, Valentin N ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 8-9, S. 368-374
    Online academicJournal
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    CVD of lanthanum oxyfluoride-based thin films from a lanthanum β-diketonate diglyme precursor
    BARRECA, Davide ; GASPAROTTO, Alberta ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 11 (2005), Heft 10, S. 426-432
    Online academicJournal
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    Phase selective deposition and microstructure control in iron oxide films obtained by single-source CVD
    MATHUR, Sanjay ; VEITH, Michael ; et al.
    In: Chemical vapor deposition (Print), Jg. 8 (2002), Heft 6, S. 277-283
    Online academicJournal
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