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    Investigation of negative capacitance and junctionless MOSFETs for CMOS scaling
    Han, Qinghua ; Knoch, Joachim ; et al.
    In: Aachen 1 Online-Ressource (x, 114 Seiten) : Illustrationen, Diagramme (2018). doi:10.18154/RWTH-2019-00281 = Dissertation, Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule, 2018
    Hochschulschrift
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    Characterization, integration and reliability of HfO 2 and LaLuO 3 high-kappa-metal gate stacks for CMOS applications
    Nichau, Alexander ; Mantl, Siegfried
    In: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University XI, 179 S. : Ill., graph. Darst. (2013). = Aachen, Techn. Hochsch.,, 2013
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
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    Ultra Thin Silicon Nitride Interface Engineering
    Fischer, Sergej ; Knoch, Joachim ; et al.
    In: Aachen 1 Online-Ressource (ii, 184 Seiten) : Illustrationen, Diagramme (2017). doi:10.18154/RWTH-2017-09277 = Dissertation, 2017
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
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    Integration of MOSFETs with SiGe dots as stressor material
    Nanver, L.K. ; Jovanovic, V. ; et al.
    In: Solid state electronics 60, 75 - 83 (2011). doi:10.1016/j.sse.2011.01.038, 2011
    academicJournal
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    Ge(Sn)-based vertical gate-all-around nanowire MOSFETs and inverters for low power logic
    Liu, Mingshan ; Knoch, Joachim ; et al.
    In: Aachen : RWTH Aachen University 1 Online-Ressource : Illustrationen, Diagramme (2021). doi:10.18154/RWTH-2021-02244 = Dissertation, Rheinisch-Westfälische Technische Hochschule, 2021
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Carrier mobility in advanced channel materials using alternative gate dielectrics
    Durgun Özben, Eylem ; Mantl, Sigfried
    In: Aachen : Publikationsserver der RWTH Aachen University 111 S. : Ill., graph. Darst. (2013). = Aachen, Techn. Hochsch.,, 2013
    Hochschulschrift
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
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