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  1. Detailansicht für Treffer 1 öffnen
    A new TCAD simulation method for direct CMOS electron detectors optimization
    Marcelot, O. ; Marcelot, C. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 243 (2023)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 2 öffnen
    Comparison of detection limits of direct-counting CMOS and CCD cameras in EELS experiments
    Haruta, Mitsutaka ; Kikkawa, Jun ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 240 (2022-10-01)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Implementation and operation of a fiber-coupled CMOS detector in a low energy electron Microscope
    Janoschka, D. ; Dreher, P. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 221 (2021-02-01)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 4 öffnen
    A new TCAD simulation method for direct CMOS electron detectors optimization
    Marcelot, O. ; Marcelot, C. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 243 (2022-06-02)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    Implementation and operation of a fiber-coupled CMOS detector in a low energy electron Microscope
    Franz, T. ; M. Horn-von Hoegen ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 221 (2021-02-01), S. 113180-113180
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    Comparison of detection limits of direct-counting CMOS and CCD cameras in EELS experiments
    Haruta, Mitsutaka ; Kikkawa, Jun ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 240 (2022-02-09)
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 7 öffnen
    Nanochemical surface analyzer in CMOS technology
    FRANKS, W ; LANGE, D ; et al.
    In: SPM 2001 Proceedings of the Third International Conference on Scanning Probe Microscopy, Sensors and Nanostructures, Makuhari, Chiba, Japan, May 27-31, Jg. 91 (2002), Heft 1-4, S. 21-27
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Holographic voltage profiling on 75 nm gate architecture CMOS devices
    THESEN, Alexander E ; FROST, Bernhard G ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 94 (2003), Heft 3-4, S. 277-281
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Experimental observation of the improvement in MTF from backthinning a CMOS direct electron detector
    McMullan, G. ; Faruqi, A. R. ; et al.
    In: ULTRAMICROSCOPY, Jg. 109 (2009), Heft 9, S. 1144-1147
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    Holographic voltage profiling on 75nm gate architecture CMOS devices
    Thesen, A. E. G. ; Frost, B. C. ; et al.
    In: ULTRAMICROSCOPY, Jg. 94 (2003), Heft 3-4, S. 277-281
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Holographic voltage profiling on 75 nm gate architecture CMOS devices
    Frost, Bernhard G. ; Joy, David C. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 94 (2003-01-14), Heft 3-4
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Nanochemical surface analyzer in CMOS technology
    Baltes, Henry ; Franks, W. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 91 (2002-09-05), Heft 1-4
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Nanochemical surface analyzer in CMOS technology.
    Frank, W ; Lange, D ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 91 (2002-05-01), Heft 1-4, S. 21-7
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Extraction of acceptor concentration map from EBIC experiments
    Magnan, P. ; Marcelot, O.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 228 (2021-01-21)
    Online unknown
    Zugriff:
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Integrated wafer-scale manufacturing of electron cryomicroscopy specimen supports
    Russo, Christopher J. ; Naydenova, Katerina
    In: Ultramicroscopy, Jg. 232 (2022), S. 113396-113396
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Comparison of optimal performance at 300 keV of three direct electron detectors for use in low dose electron microscopy.
    McMullan, G. ; Faruqi, A.R. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 147 (2014-12-01), S. 156-163
    academicJournal
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    academicJournal
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Comparison of optimal performance at 300keV of three direct electron detectors for use in low dose electron microscopy
    McMullan, Greg ; Faruqi, A.R. ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 147 (2014-12-01), S. 156-163
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Sub-pixel electron detection using a convolutional neural network
    Jan Pieter Abrahams ; Eric van Genderen ; et al.
    In: Ultramicroscopy, Jg. 218 (2020-11-01), S. 113091-113091
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
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