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    (Invited)Â Post-CMOS Compatible Silicon MEMS Nano-Tactile Sensor for Touch Feeling Discrimination of Materials
    Takao, H.
    In: ECS transactions, Jg. 97 (2020), Heft 5, S. 79-90
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    (Invited)Â CMOS-MEMS Based Microgravity Sensor and Its Application
    Masu, K. ; Machida, K. ; et al.
    In: ECS transactions, Jg. 97 (2020), Heft 5, S. 91-108
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    (Invited)Â Development of CMOS-MEMS Cointegrated Pressure Sensor Using Minimal Fab Process
    Liu, Y. ; Akita, I. ; et al.
    In: ECS transactions, Jg. 97 (2020), Heft 1, S. 35-48
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    Application of high-K dielectrics in CMOS technology and emerging new technology
    LIU, Rich ; WU, Tai-Bor
    In: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices (Paris, 27 April - 2 May 2003), 2003, S. 207-216
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    SOI CMOS circuits for System-on-Chip (SoC) application
    KIM, Jonghae ; PLOUCHART, Jean-Olivier ; et al.
    In: Dielectrics for nanosystems : materials science, processing, reliability, and manufacturing (Honolulu HI, 3-8 October 2004), 2004, S. 292-311
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 6 öffnen
    High-speed conversion of picosecond, millivolt pulse signals to CMOS voltage levels
    VAN DUZER, T ; WHITELEY, S. R ; et al.
    In: Low temperature electronics and low temperaturee cofired ceramic based electronic devices (Orlando FL, 12-16 October 2003), 2003, S. 44-49
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Three-color detectors for APS-CMOS image sensors employing a triple junctions
    MESTANZA, S. N. M ; MANERA, L. T ; et al.
    In: Microelectronics technology and devices SBMICRO 2003 (Sao Paulo, 8-11 September 2003), 2003, S. 428-436
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 8 öffnen
    Novel dielectric structures for optical performance enhancement in deep sub-micron CMOS image sensor
    YAUNG, Dun-Nian ; WUU, Shou-Gwo ; et al.
    In: Dielectrics for nanosystems : materials science, processing, reliability, and manufacturing (Honolulu HI, 3-8 October 2004), 2004, S. 135-150
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Atomic-scale Dopant Integration During CMOS Device Fabrication : 240th Electrochemical Society meeting (ECS)
    Leenheer, Andrew ; Halsey, Connor ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 240 (2021), Heft 3, S. 1215-1216
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    An Extended-Gate Ion-Sensitive Field-Effect Transistor with CMOS Technology-Intrinsic TiN Sensing Layer : 239th ECS meeting with the 18th international meeting on chemical sensors (IMCS)
    Teng, Nan-Yuan ; Wu, Yi-Ting ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 239 (2021), Heft 4, S. 2301-2302
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    (Invited) Isotopically Engineered Silicon Testbeds for Advanced CMOS and Quantum Information : 239th ECS meeting with the 18th international meeting on chemical sensors (IMCS)
    Miyamoto, Satoru ; Usami, Noritaka ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 239 (2021), Heft 2, S. 1329-1330
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Extending Planar Single-Gate CMOS & Accelerating the Realization of Double-Gate/Multi-Gate CMOS Devices : ULSI process integration
    Borland, J. O. ; Iwai, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, 2003, S. 330-348
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Silicon Oxynitride Layers Fabricated by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition (PECVD) for CMOS Devices : International chemical vapor deposition symposium; EuroCVD 17 / CVD 17
    Mroczynski, R. ; Beck, R.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 25 (2009), Heft 8, S. 797-804
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Extending planar single-gate CMOS & accelerating the realization of double-gate/multi-gate CMOS devices
    BORLAND, John O ; IWAI, Hiroshi ; et al.
    In: ULSI process integration III (Paris, 28 April - 2 May 2003), 2003, S. 330-345
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    Real-Time Detection of Self-Assembled Monolayer Formation Using CMOS-Based Nanocapacitor Arrays : 240th Electrochemical Society meeting (ECS)
    Chinnathambi, Selvaraj ; Saghafi, Mohammad ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 240 (2021), Heft 5, S. 2361-2361
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Crystalline Rare-Earth Oxides as High-k Materials for Future CMOS Technologies : Physics and technology of high-k gate dielectrics
    Osten, H. ; Laha, A. ; et al.
    In: ECS TRANSACTIONS, Jg. 11 (2007), Heft 4, S. 287-298
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    New developments in schottky source/drain high-k/metal gate CMOS transistors
    LI, Ming-Fu ; LEE, Sungjoo ; et al.
    In: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS : naw materials, processes, 2005, S. 301-310
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Advanced cmos devices: Part II - exploratory devices and approaches
    WONG, H.-S. Philip
    In: Advanced gate stack, source/drain and channel engineering for Si-based CMOS : naw materials, processes, 2005, S. 13-22
    Konferenz
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Atomic vapour deposition of complex high-K thin films for sub-90 NM CMOS devices
    LINDNER, J ; MIEDL, S ; et al.
    In: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices (Paris, 27 April - 2 May 2003), 2003, S. 459-464
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Front-end process technology for hp65/45 CMOS devices
    NARA, Yasuo ; OOTSUKA, Fumio ; et al.
    In: Silicon materials science and technology X (Denver CO, 7-12 May 2006), 2006, S. 27-31
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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