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    Three-Dimensional Integration of InAs Nanowires by Template-Assisted Selective Epitaxy on Tungsten
    Svensson, Johannes ; Olausson, Patrik ; et al.
    In: Nano Letters NanoLund: Centre for Nanoscience, Jg. 23 (2023-06-14), Heft 11, S. 4756-4761
    Online unknown
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    Design of a 2.45GHz Wireless Temperature Sensor in 130nm CMOS Technology
    Khorramnejadi, Mohammad ; Nejdel, Anders ; et al.
    In: International New Circuits and Systems Conference (NEWCAS),Trois-Rivières, Canada,-- International New Circuits and Systems Conference (NEWCAS) ELLIIT: the Linköping-Lund initiative on IT and mobile communication, 2014, S. 377-380
    Online unknown
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    Interaction of Ni with SiGe for electrical contacts in CMOS technology
    Seger, Johan ; Zhang, Shi-Li ; et al.
    In: Trita-EKT, 2005
    Online unknown
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    Broadband CMOS LNAs for IR-UWB receiver
    Duo, Xinzhong ; Zheng, Li-Rong ; et al.
    In: Norchip 2005, Proceedings, 2005, S. 273-276
    Online unknown
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    Integration of epitaxial SiGe(C) layers in advanced CMOS devices
    Hållstedt, Julius ; Radamson, Henry ; et al.
    In: TRITA-ICT/MAP, 2007
    Online unknown
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    Investigation on maximal throughput of a CMOS repeater chain
    Larsson-Edefors, P
    In: IEEE Transactions on Circuits And Systems Part I, Jg. 47 (2000), Heft 4, S. 602-606
    Online unknown
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    Characterization of a back-illuminated CMOS camera for soft x-ray coherent scattering
    Desjardins, Kewin ; Popescu, Horia ; et al.
    In: 13th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, SRI 2018,Taipei, Taiwan,-- Proceedings of the 13th International Conference on Synchrotron Radiation Instrumentation, Jg. 2054 (2019-01-15)
    unknown
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    Effects of TiN Top Electrode Texturing on Ferroelectricity in Hf1-xZrxO2
    Athle, Robin ; Persson, Anton E.O. ; et al.
    In: ACS applied materials & interfaces NanoLund: Centre for Nanoscience, Jg. 13 (2021), Heft 9, S. 11089-11095
    Online unknown
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    Implementation of the DTMROC-S ASIC for the ATLAS TRT Detector in a 0.25μm CMOS technology
    Åkesson, Torsten ; Anghinolfi, F ; et al.
    In: IEEE Nuclear Science Symposium/Medical Imaging Conference (NSS/MIC),Norfolk, VA, United States,-- IEEE Nuclear Science Symposium and Medical, Jg. 1 (2003), S. 549-553
    unknown
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    Cosmic ray neutron multiple-upset measurements in a 0.6-mu m CMOS process
    Hazucha, P ; Svensson, C
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 47 (2000), Heft 6, S. 2595-2602
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    Impact of CMOS technology scaling on the atmospheric neutron soft error rate
    Hazucha, P ; Svensson, C
    In: IEEE Transactions on Nuclear Science, Jg. 47 (2000), Heft 6, S. 2586-2594
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Pulsewidth control loop in high-speed CMOS clock buffers
    Mu, F. ; Svensson, C.
    In: IEEE Journal of Solid-State Circuits, Jg. 35 (2000), Heft 2, S. 134-141
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Cosmic-ray soft error rate characterization of a standard 0.6-µm CMOS process
    Hazucha, P. ; Svensson, C. ; et al.
    In: IEEE Journal of Solid-State Circuits, Jg. 35 (2000), Heft 10, S. 1422-1429
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Improved Endurance of Ferroelectric HfxZr1–xO2 Integrated on InAs Using Millisecond Annealing
    Athle, Robin ; Blom, Theodor ; et al.
    In: Advanced Materials Interfaces NanoLund: Centre for Nanoscience, Jg. 9 (2022), Heft 27
    Online unknown
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    III/V Nanowire FETs for CMOS?
    Wernersson, Lars-Erik
    In: 3rd International SiGe, Jg. 16 (2008), Heft 10, S. 741-743
    unknown
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  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    Small-signal substrate resistance effect in RF CMOS identified through device simulations
    Hjelmgren, H ; Litwin, A
    In: IEEE Transactions on Electron Devices, Jg. 48 (2001), Heft 2, S. 397-399
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    The upgrade of the ALICE TPC with GEMs and continuous readout
    Adolfsson, Jonatan ; Angelsmark, M ; et al.
    In: Journal of Instrumentation, Jg. 16 (2021), Heft 3
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    Fabrication of cantilever based mass sensors inteagrated with CMOS using direct write laser lithography on resist
    Forsén, E ; Nilsson, S G ; et al.
    In: Nanoscale Dev and System Integr Conf, Miami, Fl, USA (2004),-02 Nanotechnol 15, S628-S633 (2004), 2004
    unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    GaSb nanowire pFETs for III-V CMOS
    Dey, Anil ; Svensson, Johannes ; et al.
    In: 71th Annual Device Research Conference (DRC),Notre Dame, United States,-24 IEEE Device Research Conference. Proceedings, 2013, S. 13-14
    unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    Integration of metallic source/drain contacts in MOSFET technology
    Luo, Jun ; Östling, Mikael, Professor ; et al.
    In: NEMO, NANOSIL, SINANO Trita-ICT/MAP AVH, 2010
    Online unknown
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    Wie komme ich dran?
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