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    The Conversion of Bulk CMOS Circuits to SOI Technology and Its Noise Impact : VLSI technology, systems, and applications
    Wang, L. K. ; Chen, H. H.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 282-285
    Konferenz
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    A Micropower Current-Mode CMOS Function Approximation Circuit : VLSI technology, systems, and applications
    Manaresi, N. ; Rovatti, R. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 290-293
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Design Challenges for High-Performance SOI Digital CMOS VLSI (Invited) : VLSI technology, systems, and applications
    Chuang, C. T.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 270-273
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Whole-Chip ESD Protection Strategy for CMOS IC's with Multiple Mixed-Voltage Power Pins : VLSI technology, systems, and applications
    Ker, M. D. ; Chang, H. H.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 298-301
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Low-Voltage Analog CMOS Circuit Techniques (Invited) : VLSI technology, systems, and applications
    Fattaruso, J. W.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 286-289
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Implementation of a High Speed Multiport Register File in a 1.8V, 0.25m̆ CMOS Bulk and SOI Technology : VLSI technology, systems, and applications
    Joshi, R. V. ; Hwang, W. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 274-277
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Hysteresis in Floating-Body PD/SOI CMOS Circuits : VLSI technology, systems, and applications
    Pelella, M. M. ; Chuang, C. T. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 278-281
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A New Design for 1280x1024 Digital CMOS Image Sensor with Enhanced Sensitivity, Dynamic Range and FPN : VLSI technology, systems, and applications
    Ho, J. S. ; Chiang, M. C. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 235-238
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 9 öffnen
    Wireless Transceivers in CMOS IC Tecchnology: The New Wave (Invited) : VLSI technology, systems, and applications
    Abidi, A. A.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 151-158
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 10 öffnen
    An Enhanced Model for Planar Inductors in CMOS Technology : VLSI technology, systems, and applications
    Wu, W. C. ; Chan, Y. J. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 143-146
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 11 öffnen
    CMOS Scaling Beyond 0.1m̆: How Far Can It Go? (Invited) : VLSI technology, systems, and applications
    Taur, Y.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 6-9
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Performance Enhancement in Deep-submicron Poly-SiGe-gated CMOS Devices : VLSI technology, systems, and applications
    Lee, W. C. ; King, T. J. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 14-18
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 13 öffnen
    Experimental Investigation on the HBM ESD Characteristics of CMOS Devices in a 0.35-ğm Silicided Process : VLSI technology, systems, and applications
    Chen, T. Y. ; Ker, M. D. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 35-38
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 14 öffnen
    Channel Formation for 0.15m̆ CMOS Using Through-the-Gate Implantation : VLSI technology, systems, and applications
    Montree, A. H. ; Ponomarev, Y. V. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , Heft E 1999, S. 10-13
    Konferenz
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  15. Detailansicht für Treffer 15 öffnen
    1.5V CMOS and BiCMOS Bootstrapper Dynamic Logic Circuits Suitable for Low-Voltage VLSI : VLSI technology, systems, and applications
    Lou, J. H. ; Kuo, J. B.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 279-282
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 16 öffnen
    CMOS Technology for 1.8V and Beyond (Invited) : VLSI technology, systems, and applications
    Sun, J. Y. C.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 293-297
    Konferenz
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  17. Detailansicht für Treffer 17 öffnen
    Design Strategy of MLSCR Devices for Submicron CMOS Technology : VLSI technology, systems, and applications
    Lu, T. C. ; Guo, J. C. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 241-244
    Konferenz
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    A Shall-Trench Isolation Study for 0.18 ̆m CMOS Technology with Emphasis on the Effects of Well Design, Channel Stop Implants, Trench Depth, and Salicide Process : VLSI technology, systems, and applications
    Murtaza, S. ; Chatterjee, A. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 133-137
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 19 öffnen
    Layout Verification for Submicron CMOS Cell Libraries to Improve ESD/Latchup Reliability : VLSI technology, systems, and applications
    Ker, M. D. ; Hsiao, S. M. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 343-347
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 20 öffnen
    A Comparative pMOS study of 33 Nitrided Oxides Prepared by either N2O or Nitrogen Implant before Gate Oxidation for 0.18-0.13um CMOS Technologies : VLSI technology, systems, and applications
    Hu, J. C. ; Kuehne, J. ; et al.
    In: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON VLSI TECHNOLOGY SYSTEMS AND APPLICATIONS, , S. 167-171
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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