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    Characterization of plasma-enhanced CVD processes: symposium held November 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A.
    Lucovsky, G. ; Ibbotson, Dale E. ; et al.
    1990
    Buch
    Wie komme ich dran?
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    academicJournal
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    Nucleation of CVD-TiN on tungsten
    GLEJBØL, K ; PRYDS, N. H ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 9, S. 2239-2244
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Chemical stability of CVD source materials for high-Tc superconducting films
    HASHIMOTO, T ; KOINUMA, H ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 7 (1992), Heft 6, S. 1336-1340
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Correlation among Si, Ge, and B deposition rates in low-pressure CVD with SiH4-GeH4-B2H6-He mixtures
    MURASE, K
    In: Journal of materials research, Jg. 6 (1991), Heft 1, S. 92-96
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Nucleation Behavior of CVD Cu on Ru Substrate Having Different Crystal Orientation : Advanced metallization conference; (AMC 2005)
    Kim, H. ; Koseki, T. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE, 2005, S. 525-532
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Thin CVD Ru Film Performance as Cu Diffusion Barrier and for Direct Plating : Advanced metallization conference; (AMC 2005)
    Suzuki, K. ; Faguet, J. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE, 2005, S. 469-474
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Material Design of Balance Between High Mechanical Strength and High Plasma Resistance for Porous PE-CVD SiOC Film (k=2.3) : Advanced metallization conference; (AMC 2005)
    Miyajima, H. ; Masuda, H. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE, 2005, S. 297-302
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Combined surface characterization and tribological (friction and wear) studies of CVD diamond films
    PERRY, S. S ; AGER, J. W ; et al.
    In: Journal of materials research, Jg. 8 (1993), Heft 10, S. 2577-2586
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Photoluminescence in UHV/CVD Tensile-Strained Si Type-II Quantum Wells on Bulk Crystal SiGe Substrates : Progress in semiconductors II: electronic and optoelectronic applications
    Sheng, S. R. ; Rowell, N. L. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 744 (2003), S. 513-518
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    A Differential Scanning Calorimetry (DSC) Study on the Pyrolysis Mechanism of Zinc Oxide CVD Precursor, Zinc Acetylacetonate : Progress in semiconductors II: electronic and optoelectronic applications
    Chang, Y. ; Hsieh, J. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 744 (2003), S. 187-192
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Ion Beam Etching of CVD Diamond Enhanced by Prior Au and O Implantation : Surface engineering 2002: synthesis, characterization and applications
    Leech, P. W. ; Reeves, G. K. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 750 (2003), S. 355-360
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Processing and Characterization of CVD c-BN Films and c-BN/Diamond Bilayers : Surface engineering 2002: synthesis, characterization and applications
    Yang, T. S. ; Cheng, J. B. ; et al.
    In: MATERIALS RESEARCH SOCIETY SYMPOSIUM PROCEEDINGS, Jg. 750 (2003), S. 183-192
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Theoretical Study on the Elementary Reaction Rates of Aluminum CVD : Advanced metallization conference(AMC)
    Nakatomi, M. ; Nakajima, T. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE IN, 2001, S. 673-678
    Konferenz
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    Development of CVD TiN(Si) for Advance Cu Barrier Application : Advanced metallization conference(AMC)
    Shahvandi, I. ; Brennan, B. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE IN, 2001, S. 559-566
    Konferenz
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    Surface Morphology Control of Al-CVD for Dual-Damascene Application : Advanced metallization conference(AMC)
    Iino, T. ; Sugiyama, M. ; et al.
    In: ADVANCED METALLIZATION CONFERENCE IN, 2001, S. 527-532
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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