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    Analysis and modeling of low pressure CVD of silicon nitride from a silane-ammonia mixture. I. Experimental study and determination of a gaseous phase mechanism
    YACOUBI, K ; AZZARO-PANTEL, C ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 146 (1999), Heft 8, S. 3009-3017
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 22 öffnen
    Classical and dynamic analysis of gas phase reactivity: Influence of carbon precursor in the CVD of SiC
    DE PERSIS, Stéphanie ; TEYSSANDIER, Francis ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 4, S. C236- (9S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 23 öffnen
    CVD epitaxial deposition in a vertical barrel reactor : process modeling and optimization using neural network models
    XING AN, WANG ; MAHAJAN, R. L
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 9, S. 3123-3132
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 24 öffnen
    Effect of annealing conditions on a hafnium oxide reinforced SiO2 gate dielectric deposited by plasma-enhanced metallorganic CVD
    CHOI, Kyu-Jeong ; SHIN, Woong-Chul ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 149 (2002), Heft 3, S. F18- (4S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 25 öffnen
    Effect of oxygen post plasma treatment on characteristics of electron cyclotron resonance CVD fluorine-doped silicon dioxide films using SiF4 and O2 gas sources
    SEOGHYEONG, LEE ; PARK, J.-W
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 146 (1999), Heft 2, S. 697-701
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 26 öffnen
    Analysis and modeling of low pressure CVD of silicon nitride from a silane-ammonia mixture. II. Deposition modeling
    YACOUBI, K ; AZZARO-PANTEL, C ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 146 (1999), Heft 8, S. 3018-3027
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 27 öffnen
    The Construction of Fe-Compounds Doped Porous Carbon Nanofiber and Carbon Nanotube Composite Material by One-Step Carbonization and CVD for Li-Ion Capacitor.
    Ju, Jingge ; Lv, Yi ; et al.
    In: Journal of The Electrochemical Society, Jg. 166 (2019-04-01), Heft 6, S. A1223- (8S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 28 öffnen
    Photo-CVD SiO2 layers on AlGaN/GaN/AlGaN MOS-HFETs
    CHIOU, Yu-Zung
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 151 (2004), Heft 12, S. G863- (3S.)
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 29 öffnen
    Film properties of CVD titanium nitride deposited with organometallic precursors at low pressure using inert gases, ammonia, or remote activation
    INTEMANN, A ; KOERNER, H ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 140 (1993), Heft 11, S. 3215-3222
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 30 öffnen
    Three-dimensional predictions of silicon deposition in a barrel type CVD reactor
    YANG, L ; FAROUK, B ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 139 (1992), Heft 9, S. 2666-2673
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 31 öffnen
    FTIR studies of the adsorption/desorption behavior of Cu chemical vapor deposition precursors on silica. IV: Interaction of (1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetonato)(2-butyne)copper(I), (hfac)Cu(2-butyne) and (1,1,1,5,5,5-hexafluoroacetylacetonato)(vinyltrimethylsilane)copper(I), (hfac)Cu(VTMS) with passivated silica surfaces and comparison to selective CVD of Cu
    FARKAS, J ; HAMPDEN-SMITH, M. J ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 141 (1994), Heft 12, S. 3547-3555
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 32 öffnen
    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
  13. Detailansicht für Treffer 33 öffnen
    Cu CVD from copper(II) hexalfuoroacetylacetonate. II: Laser-assisted selective area deposition
    CHEN, Y. D ; REISMAN, A ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 11, S. 3911-3918
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 34 öffnen
    Cu CVD from copper(II) hexafluoroacetylacetonate. I: A cold wall reactor design, blanket growth rate, and natural selectivity
    CHEN, Y. D ; REISMAN, A ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 11, S. 3903-3911
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 35 öffnen
    Transmission electron microscopy observation of the early growth stages of SiGe grown on Si substrates by conventional low-pressure CVD
    FUJINAGA, K
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 7, S. 2341-2346
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 36 öffnen
    Influence of hydrogen pressure on the properties of CVD tungsten silicide films
    THOMAS, N ; DUTRON, A. M ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 5, S. 1608-1614
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 37 öffnen
    Influence of H2 addition and growth temperature on CVD of SiC using hexamethyldisilane and Ar
    NORDELL, N ; NISHINO, S ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 142 (1995), Heft 2, S. 565-571
    academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 38 öffnen
    Modeling of CVD of silicon dioxide using TEOS and ozone in a single-wafer reactor
    EUI JUNG, KIM ; GILL, W. N
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 141 (1994), Heft 12, S. 3462-3472
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 39 öffnen
    High-selectivity and high-deposition rate tungsten CVD freed from chamber cleaning
    MAEDA, Y ; SUZUKI, H ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 141 (1994), Heft 2, S. 566-571
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 40 öffnen
    A thermodynamic analysis of selective area CVD of titanium nitride compound by the alternating cyclic method
    WANG, Q. S ; REISMAN, A ; et al.
    In: Journal of the Electrochemical Society, Jg. 141 (1994), Heft 4, S. 1086-1094
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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