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    High resolution nanotopography characterization at die scale of 28 nm FDSOI CMOS front-end CMP processes
    Dettoni, F. ; Rivoire, M. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 113 (2014), S. 105-108
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 62 öffnen
    Three-solenoid windings transformer baluns on CMOS-grade silicon substrate
    ZHENGZHENG, WU ; XIN, WANG ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 87 (2010), Heft 2, S. 150-158
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 63 öffnen
    CMOS optoelectronic components for clock distribution
    POWNALL, Robert ; THANGARAJ, Charles ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 87 (2010), Heft 10, S. 1838-1845
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 64 öffnen
    Emulating switch-level models of CMOS circuits : On VLSI design and test
    EJLALI, Alireza ; SEYED GHASSEM, MIREMADI
    In: Microelectronic engineering, Jg. 84 (2007), Heft 2, S. 204-212
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 65 öffnen
    A direct-write microfluidic fabrication process for CMOS-based Lab-on-Chip applications
    GHAFAR-ZADEH, Ebrahim ; SAWAN, Mohamad ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 86 (2009), Heft 10, S. 2104-2109
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 66 öffnen
    A maskless wet etching silicon dioxide post-CMOS process and its application
    DAI, Ching-Liang
    In: Microelectronic engineering, Jg. 83 (2006), Heft 11-12, S. 2543-2550
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 67 öffnen
    Optimization of a very cost-effective high voltage p-channel transistor implemented in a standard twin-tub CMOS technology
    PEREZ-TOMAS, A ; JORDA, X ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 77 (2005), Heft 2, S. 158-167
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 68 öffnen
    An automatic parameter extraction technique for advanced CMOS device modeling using genetic algorithm : On VLSI design and test
    YIMING, LI
    In: Microelectronic engineering, Jg. 84 (2007), Heft 2, S. 260-272
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 69 öffnen
    Prediction of energy change due to hot carrier injection in nano-structured CMOS system: Perspective of an envelope detector
    Karim, Nissar Mohammad ; Soin, Norhayati ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 111 (2013-11-01), S. 256-260
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 70 öffnen
    Integration of NEMS resonators in a 65 nm CMOS technology
    Muñoz-Gamarra, J.L. ; Alcaine, P. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 110 (2013-10-01), S. 246-249
    academicJournal
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  11. Detailansicht für Treffer 71 öffnen
    Towards CMOS-compatible single-walled carbon nanotube resonators
    Pathangi, H. ; Cherman, V. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 107 (2013-07-01), S. 219-222
    academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 72 öffnen
    High mobility CMOS transistors on Si/SiGe heterostructure channels
    OH, Jungwoo ; JEON, Kanghoon ; et al.
    In: Microelectronic engineering, Jg. 97 (2012), S. 26-28
    academicJournal
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  13. Detailansicht für Treffer 73 öffnen
    Effectiveness of wafer level test for electromigration wear out reporting in advanced CMOS interconnects reliability assessment
    Bana, F. ; Petitprez, E. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 106 (2013-06-01), S. 195-199
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  14. Detailansicht für Treffer 74 öffnen
    A 2D MEMS grating based CMOS compatible poly-SiGe variable optical attenuator
    Rudra, S. ; Van Hoof, R. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 105 (2013-05-01), S. 8-12
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 75 öffnen
    Performance improvement of chip-level CMOS-integrated ReRAM cells through material optimization
    Demirci, Tugba ; Leblebici, Yusuf ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 214 (2019-06-01), S. 74-80
    Online unknown
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    View record in OpenAIRE (Volltext)
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  16. Detailansicht für Treffer 76 öffnen
    Thermal stress analysis for a CMOS-MEMS microphone with various metallization and materials
    Yeh, Meng-Kao ; Lu, Chun-Lin
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 213 (2019-05-01), S. 47-54
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
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  17. Detailansicht für Treffer 77 öffnen
    Improved digital performance of hybrid CMOS inverter with Si p-MOSFET and InGaAs n-MOSFET in the nanometer regime
    Tewari, Suchismita ; De, Suchismita ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 211 (2019-04-01), S. 18-25
    Online unknown
    Zugriff:
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  18. Detailansicht für Treffer 78 öffnen
    A 230 MHz CMOS-MEMS bulk acoustic wave resonator
    Ferrer, Eloi Marigó ; Muñoz-Gamarra, J.L. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 98 (2012-10-01), S. 458-462
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 79 öffnen
    Cancellation of the parasitic feedthrough current in an integrated CMOS–MEMS clamped-clamped beam resonator
    Giner, Joan ; Uranga, Arantxa ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 98 (2012-10-01), S. 599-602
    academicJournal
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  20. Detailansicht für Treffer 80 öffnen
    Fabrication of a glucose sensor with oscillator circuit using CMOS-MEMS technique
    Yang, Ming-Zhi ; Dai, Ching-Liang ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 97 (2012-09-01), S. 353-356
    academicJournal
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