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  1. Detailansicht für Treffer 41 öffnen
    Diffusion and electrical activity of copper in Si 1− x− yGe xC y alloys
    Hattab, A ; Aboelfotoh, M.O ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 60 (2002), Heft 1, S. 283-288
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  2. Detailansicht für Treffer 42 öffnen
    Surface preparation and post thermal treatment effects on interface properties of thin Al2O3 films deposited by ALD
    CHANG, Y ; DUCROQUET, F ; et al.
    In: INFOS 2003 Proceedings of the 13th Biennial Conference on Insulating Films on Semiconductors: June 18-20, Jg. 72 (2004), Heft 1-4, S. 326-331
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 43 öffnen
    Preferential nucleation of silicon nano-crystals on electron beam exposed SiO2 surfaces
    MAZEN, F ; MOLLARD, L ; et al.
    In: Proceedings of the 29th Conference on Micro and Nano Engineering, September 22-25, 2003, Cambridge, United Kingdom, Jg. 73-74 (2004), S. 632-638
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 44 öffnen
    Diffusion and electrical activity of copper in Si1-x-yGexCy alloys
    HATTAB, A ; ABOELFOTOH, M. O ; et al.
    In: Proceedings of the fifth european workshop on materials for advanced metallization (MAM 2001), Sigtuna, Sweden, March 5-7, Jg. 60 (2002), Heft 1-2, S. 283-288
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 45 öffnen
    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
  6. Detailansicht für Treffer 46 öffnen
    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
  7. Detailansicht für Treffer 47 öffnen
    Characterization of ultra-thin SiO<subscript>2</subscript> by capacitance–voltage and charge pumping measurements
    Militaru, L. ; Poncet, A. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 81 (2005-07-01), Heft 1, S. 59-65
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 48 öffnen
    LaAlO<subscript>3</subscript> films prepared by MBE on LaAlO<subscript>3</subscript>(001) and Si(001) substrates
    Gaillard, S. ; Rozier, Y. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 80 (2005-06-01), S. 146-149
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 49 öffnen
    Preferential nucleation of silicon nano-crystals on electron beam exposed SiO<subscript>2</subscript> surfaces
    Mazen, F. ; Mollard, L. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 73/74 (2004-06-01), S. 632-638
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 50 öffnen
    Surface preparation and post thermal treatment effects on interface properties of thin Al<subscript>2</subscript>O<subscript>3</subscript> films deposited by ALD
    Chang, Y. ; Ducroquet, F. ; et al.
    In: Microelectronic Engineering, Jg. 72 (2004-04-01), Heft 1-4, S. 326-331
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 51 öffnen
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    academicJournal
  12. Detailansicht für Treffer 52 öffnen
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    academicJournal
  13. Detailansicht für Treffer 53 öffnen
    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
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