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  1. Detailansicht für Treffer 21 öffnen
    Detection of plasma-induced, nanoscale dielectric constant variations in carbon-doped CVD oxides by electrostatic force microscopy
    Gross, Todd S. ; Kevin G Soucy ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 35 (2002-03-20), S. 723-728
    Online unknown
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  2. Detailansicht für Treffer 22 öffnen
    CVD growth and field emission properties of nanostructured carbon films
    Hiraki, A ; Obraztsov, Alexander N. ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 35 (2002-02-01), S. 357-362
    Online unknown
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  3. Detailansicht für Treffer 23 öffnen
    Influence of PE-CVD and PE-ALD on defect formation in permeation barrier films on PET and correlation to atomic oxygen fluence
    Hopmann, Ch. ; Dahlmann, Rainer ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 50 (2017-05-18), S. 235201-235201
    Online unknown
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  4. Detailansicht für Treffer 24 öffnen
    The effects of varying plasma parameters on silicon thin film growth by ECR plasma CVD
    Summers, S ; G H Shirkoohi ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 34 (2001-09-05), S. 2782-2791
    Online unknown
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  5. Detailansicht für Treffer 25 öffnen
    Plasma-assisted CVD of hydrogenated diamond-like carbon films by low-pressure dielectric barrier discharges
    Liu, Dongping ; Yang, Xuefeng ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 34 (2001-05-22), S. 1651-1656
    Online unknown
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  6. Detailansicht für Treffer 26 öffnen
    Photophysical and photochemical effects in ultrafast laser patterning of CVD graphene
    Komarov, Ivan ; Bobrinetskiy, Ivan I. ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 49 (2016-09-13), S. 41LT01
    Online unknown
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  7. Detailansicht für Treffer 27 öffnen
    Dominant plasma species for TiN film formation by plasma CVD
    Perillo, P ; Lasorsa, C ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 30 (1997-09-07), S. 2397-2402
    Online unknown
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  8. Detailansicht für Treffer 28 öffnen
    Properties of hydrogenated amorphous silicon carbide films prepared by a separately excited plasma CVD method
    Suzuoki, Yasuo ; Kuno, Yasuharu ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 30 (1997-01-21), S. 194-201
    Online unknown
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  9. Detailansicht für Treffer 29 öffnen
    Application of x-ray phase-contrast imaging to polycrystalline CVD diamond
    Moore, Moreton ; Stuart Geoffrey Nailer ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 32 (1999), S. A166- (6S.)
    Online unknown
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  10. Detailansicht für Treffer 30 öffnen
    Investigations of the role of the discharge current density in diamond synthesis during filament-enhanced plasma-assisted CVD
    Hu, Min ; Xu, Cun-Yi ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 31 (1998-12-07), S. 3327-3330
    Online unknown
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  11. Detailansicht für Treffer 31 öffnen
    Integration of porous silicon with CVD diamond
    Bhave, Tejashree M. ; Karve, Priyadarshini ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 28 (1995-07-14), S. 1400-1403
    Online unknown
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  12. Detailansicht für Treffer 32 öffnen
    Domain size engineering of CVD graphene and its influence on physical properties
    Myung Jong Kim ; Felisita Annisanti Mas’ud ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 49 (2016-04-18), S. 205504-205504
    Online unknown
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  13. Detailansicht für Treffer 33 öffnen
    X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) of hydrogenated amorphous silicon carbide (a-SixC1-x:H) prepared by the plasma CVD method
    Fujii, S ; Ieda, Masayuki ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 23 (1990-03-14), S. 316-320
    Online unknown
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  14. Detailansicht für Treffer 34 öffnen
    Experimental confirmation of suspended few-layered graphene on a Cu substrate grown via the CVD method and correlated with the electrical performance on a PET substrate
    Jung, Myunghee ; Park, Kyuho ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 46 (2013-08-09), S. 345301-345301
    Online unknown
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  15. Detailansicht für Treffer 35 öffnen
    Low-temperature graphene synthesis using microwave plasma CVD
    Kim, Jae-Ho ; Yamada, Takatoshi ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 46 (2013-01-14), S. 063001-63001
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  16. Detailansicht für Treffer 36 öffnen
    A simple and new modified CVD technique for fabrication of SnO2films
    Persin, M ; Vlahovic, B
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 23 (1990-10-14), S. 1324-1326
    Online unknown
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  17. Detailansicht für Treffer 37 öffnen
    CVD synthesis of polycrystalline magnetite thin films: structural, magnetic and magnetotransport properties
    Tallarida, G. ; Georgieva, M. ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 43 (2010-01-26), S. 065002-65002
    Online unknown
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  18. Detailansicht für Treffer 38 öffnen
    P-type sp3-bonded BN/n-type Si heterodiode solar cell fabricated by laser–plasma synchronous CVD method
    Nakamura, Takuya ; Yamamoto, Atsushi ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 42 (2009-11-05), S. 225107-225107
    Online unknown
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  19. Detailansicht für Treffer 39 öffnen
    Effect of electron energy probability function on plasma CVD/modification in a 13.56 MHz hollow cathode discharge
    Saloum, S. ; Akel, M ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 42 (2009-03-26), S. 085201-85201
    Online unknown
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  20. Detailansicht für Treffer 40 öffnen
    Atmospheric-pressure plasma CVD of TiO2photocatalytic films using surface dielectric barrier discharge
    Shi, Chuan ; Di, Lan-Bo ; et al.
    In: Journal of Physics D: Applied Physics, Jg. 42 (2008-12-18), S. 032001-32001
    Online unknown
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