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  1. Detailansicht für Treffer 61 öffnen
    Trapped oxygen in the grain boundaries of ZnO polycrystalline thin films prepared by plasma-enhanced chemical vapor deposition
    KIM, Y.-J ; KIM, H.-J
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 41 (1999), Heft 4, S. 159-163
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Thermodynamic aspects of the Ga1-xInxN growth by MOCVD
    LEITNER, J ; STEJSKAL, J
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 35 (1998), Heft 1-2, S. 85-89
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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    Novel two stage method for growth of highly transparent nano-crystalline diamond films
    BHUSARI, D. M ; YANG, J. R ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 36 (1998), Heft 5-6, S. 279-283
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 64 öffnen
    MOCVD synthesis of yttria doped perovskite type SrCeO3 thin films
    PAN, M ; MENG, G. Y ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 36 (1998), Heft 1-4, S. 44-47
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 65 öffnen
    Correlation between the domain structure and ferroelectricity in PbTiO3 thin films
    CHULSOO, BYUN ; JIN WOOK, JANG ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 34 (1998), Heft 3-6, S. 308-311
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 66 öffnen
    MOCVD technology for semiconductors
    THOMPSON, A. G
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 30 (1997), Heft 4, S. 255-263
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 67 öffnen
    Highly oriented diamond deposited using a low pressure flat flame
    WOLDEN, C. A ; HAN, S. K ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 32 (1997), Heft 1, S. 9-12
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 68 öffnen
    Effect of substrate surfaces and heat treatments on adhesion of Cu films
    CHOI, G. J ; CHO, Y. S
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 32 (1997), Heft 2-3, S. 185-189
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 69 öffnen
    Vapor growth of TiP whiskers by VLS mechanism using silicon-transition metal mixed impurity
    MOTOJIMA, S ; HASEGAWA, I ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 22 (1995), Heft 5-6, S. 255-257
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 70 öffnen
    Characterization of bias enhanced MWCVD diamond thin films
    GARCIA POZA, M. M ; HERNANDEZ VELEZ, M ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 29 (1996), Heft 1-3, S. 111-115
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 71 öffnen
    Preparation of MgO films on GaAs by metalorganic chemical vapor deposition
    BOO, J.-H ; YU, K.-S ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 26 (1996), Heft 4-5, S. 233-236
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 72 öffnen
    Low-temperature preparation of perovskite Pb(Sc0.5Ta0.5)O3 thin films using MOCVD
    LIU, D ; CHEN, H
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 28 (1996), Heft 1-3, S. 17-20
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  13. Detailansicht für Treffer 73 öffnen
    Low resistivity aluminum nitride : carbon (AIN:C) films grown by metal organic chemical vapor deposition
    WONGCHOTIGUL, K ; CHEN, N ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 26 (1996), Heft 4-5, S. 223-226
    academicJournal
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  14. Detailansicht für Treffer 74 öffnen
    Smooth amorphous silicon deposition on silicon dioxide with high deposition rates by rapid thermal chemical vapor deposition using disilane
    VIOLETTE, K. E ; ÖZTÜRK, M. C ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 25 (1995), Heft 5-6, S. 305-309
    academicJournal
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  15. Detailansicht für Treffer 75 öffnen
    Twin-free CdHgTe layers grown by MOCVD on vicinal (211) GaAs surfaces
    TROMSON-CARLI, A ; GIRARD-FRANCOIS, A ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 23 (1995), Heft 1-3, S. 93-98
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 76 öffnen
    Structural characterization of silicon films deposited at low temperature by remote plasma enhanced chemical vapor deposition
    XIAODONG, LI ; YOUNG-BAE, PARK ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 24 (1995), Heft 1-3, S. 79-83
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 77 öffnen
    Plasma enhanced chemical vapor deposition of Si-N-C-H films from environmentally benign organosilanes
    LEVY, R. A ; GROWN, J. M ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 24 (1995), Heft 1-3, S. 47-52
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 78 öffnen
    Growth kinetics and characterization of low pressure chemically vapor deposited Si3N4 films from (C4H9)2SiH2 and NH3
    GROW, J. M ; LEVY, R. A ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 23 (1995), Heft 4-6, S. 187-193
    academicJournal
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  19. Detailansicht für Treffer 79 öffnen
    Direct liquid injection MOCVD of high quality PLZT films
    TAO, W ; DESU, S. B ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 23 (1995), Heft 4-6, S. 177-180
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
  20. Detailansicht für Treffer 80 öffnen
    Chemical vapour deposition of crystalline thin films of tantalum phosphide
    BLACKMAN, C. S ; CARMALT, C. J ; et al.
    In: Materials letters (General ed.), Jg. 57 (2003), Heft 18, S. 2634-2636
    academicJournal
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xxl 1366 -