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  1. Detailansicht für Treffer 61 öffnen
    Activation Energy Study for the Nucleation and Growth Stages of Cu(TMVS)(HFAC) Sourced Copper CVD : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Yang, D. ; Hong, J. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 15-23
    Konferenz
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    On the Occurrence of Non-Symmetric Flows in Axisymmetric CVD Reactors : Chemical vapor deposition; CVD XV
    van Santen, H. ; Kleijn, C. R. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 160-167
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 63 öffnen
    Nanostructures by CVD Assisted Methods Using Inorganic Precursors : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Doppelt, P. ; Even, R. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 112-125
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  4. Detailansicht für Treffer 64 öffnen
    Multicomponent Transport and Mixed Convection Flows in CVD Reactors : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Ern, A.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 140-151
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  5. Detailansicht für Treffer 65 öffnen
    Evaluation of Gas Phase Reaction Rate Constant by Deposition Profile Analysis for In Situ Counter Diffusion CVD : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Egashira, Y. ; Tanaka, H. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 97-104
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  6. Detailansicht für Treffer 66 öffnen
    Modeling Particle Nucleation during Thermal CVD of Silicon from Silane using Kinetic Monte Carlo Simulation : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Li, X. ; Swihart, M.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 60-66
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  7. Detailansicht für Treffer 67 öffnen
    Gas-Phase Chemistry in the CVD of Silicon Carbide: Theoretical Study of the Reactions SiH~2+CH~4, SiH~2+C~2H~4, and SiH~2+C~2H~2 : Chemical vapor deposition; CVD XV
    Raffy, C. ; Allendorf, M. D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 2000 (2000), Heft NO 13, S. 40-50
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  8. Detailansicht für Treffer 68 öffnen
    (Invited) Semiconductor Surface Passivation by ALD and CVD Prepared Nanolayers : 240th Electrochemical Society meeting (ECS)
    Kessels, Wilhelmus M. M. ; Berghuis, Wilhelmus J. H. ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 240 (2021), Heft 2, S. 807-808
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  9. Detailansicht für Treffer 69 öffnen
    3D CVD N-Doped Graphene Coated Cu Foam As Electro-Catalyst Towards CO~2 Reduction Reaction (CO2RR) : 240th Electrochemical Society meeting (ECS)
    Srimanon, Krisara ; Sawangphruk, Montree
    In: Meeting abstracts, Jg. 240 (2021), Heft 4, S. 1952-1952
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  10. Detailansicht für Treffer 70 öffnen
    (Invited) Deposition of Crystalline AlN on Si and SiC Using Atomic Layer Annealing and Pulsed ALD/CVD : 240th Electrochemical Society meeting (ECS)
    Kummel, Andrew C. ; Ueda, Scott ; et al.
    In: Meeting abstracts, Jg. 240 (2021), Heft 2, S. 806-806
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  11. Detailansicht für Treffer 71 öffnen
    PEM Fuel Cell Performance of Cobalt Phthalocyanine Supported on CVD Graphene and Different Carbon Materials : 239th ECS meeting with the 18th international meeting on chemical sensors (IMCS)
    Yazici, Mehmet S. ; Dursun, Sumeyye
    In: Meeting abstracts, Jg. 239 (2021), Heft 4, S. 2706-2706
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  12. Detailansicht für Treffer 72 öffnen
    Controlled Lay-By-Layer Etching of CVD Grown Multilayer h-BN Single Crystal : 239th ECS meeting with the 18th international meeting on chemical sensors (IMCS)
    Stehle, Yijing Yin ; Vlassiouk, Ivan
    In: Meeting abstracts, Jg. 239 (2021), Heft 2, S. 1077-1077
    Konferenz
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  13. Detailansicht für Treffer 73 öffnen
    Comparison of Effects of CVD Al~2O~3 and Pre-Oxidized Al~2O~3 Layers on the Thermally Grown Oxide Formed on Ni-Based Superalloy : International symposium on high temperature corrosion and materials chemistry
    Su, Y. F. ; Lee, W.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 16 (2003), S. 33-39
    Konferenz
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  14. Detailansicht für Treffer 74 öffnen
    Optimizing Net Deposition Rates for a High Density Plasma CVD Process : Chemical vapor deposition
    Niazi, K. ; Chen, Z. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 681-688
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  15. Detailansicht für Treffer 75 öffnen
    Study of Precursors for Atmospheric Pressure Plasma Enhanced CVD (AP-PECVD) of Silicon Dioxide Films : Chemical vapor deposition
    Alexandrov, S. E. ; Hitchman, M. L. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 630-637
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  16. Detailansicht für Treffer 76 öffnen
    Atmospheric-Pressure Plasma-Enhanced Chemical Vapour Deposition (AP-PE-CVD) for Growth of Thin Films at Low Temperature : Chemical vapor deposition
    Davis, M. J. ; Tsanos, M. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 668-675
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  17. Detailansicht für Treffer 77 öffnen
    High-Density Plasma CVD Films of Aluminium, Gallium, and Indium Nitrides From Coordination Compounds of Metals : Chemical vapor deposition
    Mazurenko, Y. A. ; Gerasimchuk, A. I.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 689-692
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  18. Detailansicht für Treffer 78 öffnen
    Characterization of SiO~2 Films by Photo-CVD using a Xe~2 Excimer Lamp : Chemical vapor deposition
    Miyano, J. ; Maezono, Y. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 603-608
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
  19. Detailansicht für Treffer 79 öffnen
    Plasma CVD of Si/C/N: Experimental and Theoretical Results : Chemical vapor deposition
    Berger, C. ; Broszeit, E. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 646-652
    Konferenz
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  20. Detailansicht für Treffer 80 öffnen
    Kinetic Analysis of the Low Temperature CVD of Silicon/Silicon Carbide from Methyltrichlorosilane/Hydrogen for the Ceramization of Biomorphic Carbon Preforms : Chemical vapor deposition
    Popovska, N. ; Streitwieser, D. ; et al.
    In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV, Jg. 1 (2003), S. 573-580
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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