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    Interconnect capacitance characterization using charge-injection-induced error-free (CIEF) charge-based capacitance measurement (CBCM)
    CHANG, Yao-Wen ; CHANG, Hsin-Wen ; et al.
    In: IEEE transactions on semiconductor manufacturing, Jg. 19 (2006), Heft 1, S. 50-56
    Online Konferenz
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Interconnect Capacitance Characterization Using Charge-Injection-Induced Error-Free (CIEF) Charge-Based Capacitance Measurement (CBCM)
    Chang, Hsin-Wen ; Lu, Chih-Yuan ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), S. 50-56
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Interconnect Capacitance Characterization Using Charge-Injection-Induced Error-Free (CIEF) Charge-Based Capacitance Measurement (CBCM).
    Chang, Yao-Wen ; Chang, Hsin-Wen ; et al.
    In: IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, Jg. 19 (2006-02-01), Heft 1, S. 50-56
    Online academicJournal
    Zugriff:
    Volltext
    Wie komme ich dran?
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
xxl 1366 -