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    Excimer-laser patterning of copper in LDE (laser dry etching)
    Pfleging, W. ; Voerckel, A. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 109/110 (1997), Heft COM, S. 194-200
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
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    CCl~4-assisted CF~4 etching of silicon in a microwave-assisted LDE (laser dry etching)-process
    Pfleging, W. ; Wesner, D. A. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 96/98 (1996), Heft COM, S. 496-500
    serialPeriodical
    Wie komme ich dran?
  3. Detailansicht für Treffer 3 öffnen
    Excimer-laser patterning of copper in LDE (laser dry etching) : Laser processing of surfaces and thin films
    Pfleging, W. ; Voerckel, A. ; et al.
    In: APPLIED SURFACE SCIENCE, Jg. 109/110, Heft COM, S. 194-200
    Konferenz
    Wie komme ich dran?
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    Dieser Titel kann aus lizenzrechtlichen Gründen nur im Campusnetz oder nach Anmeldung angezeigt werden!
    academicJournal
  5. Detailansicht für Treffer 5 öffnen
    CCl 4 -assisted CF 4 etching of silicon in a microwave-assisted LDE (laser dry etching)-process
    Ernst Wolfgang Kreutz ; Wesner, D.A. ; et al.
    In: Applied Surface Science, 1996-04-01, S. 496-500
    Online unknown
    Zugriff:
    View record in OpenAIRE (Volltext)
    Wie komme ich dran?
xs 0 - 576
sm 576 - 768
md 768 - 992
lg 992 - 1200
xl 1200 - 1366
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