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    XeI* production via laser absorption processes at 193 nm.
    Hemmati, H. ; Collins, G. J.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 51 (1980-06-01), S. 2961-2964
    Online academicJournal
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    Multidimensional steric effects for the XeI<superscript>*</superscript> (B, C) formations in the oriented Xe<superscript>*</superscript> (<superscript>3</superscript>P<subscript>2</subscript>,M<subscript>J</subscript>=2)+oriented CF<subscript>3</subscript>I reaction.
    Ohoyama, H. ; Kubo, F. ; et al.
    In: Journal of Chemical Physics, Jg. 131 (2009-10-07), Heft 13, S. 134306-134311
    Online academicJournal
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    Formation of XeI(B) in low pressure inductive radio frequency electric, discharges sustained in mixtures of Xe and I~2
    Barnes, P. N. ; Kushner, M. J.
    In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, Jg. 80 (1996), Heft 10, S. 5593-5597
    Online serialPeriodical
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    The B(1/2 2P3/2)→X(1/2 2Σ+) transition in XeI.
    Radzykewycz, Dan T. ; Tellinghuisen, Joel
    In: Journal of Chemical Physics, Jg. 105 (1996-07-22), Heft 4, S. 1330-1340
    Online academicJournal
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    Measurement of XeI and XeII velocity in the near exit plane of a low-power Hall effect thruster by light induced fluorescence spectroscopy.
    Dancheva, Y. ; Biancalana, V. ; et al.
    In: Review of Scientific Instruments, Jg. 84 (2013-06-01), Heft 6, S. 65113-65118
    Online academicJournal
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    Multidimensional steric effects for the XeI* (B, C) formations in the oriented Xe* (3P(2),M(J) = 2) + oriented CF3I reaction.
    Ohoyama, H ; Kubo, F ; et al.
    In: The Journal of chemical physics, Jg. 131 (2009-10-07), Heft 13, S. 134306
    Online academicJournal
    Zugriff:
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    Efficient XeI* excimer ultraviolet sources from a dielectric barrier discharge.
    Zhang, Jun-Ying ; Boyd, Ian W.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 84 (1998-08-01), Heft 3, S. 1174-1178
    Online academicJournal
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    Interpretations of XeI and XeBr bound-free emission spectra and reactive quenching of Xe(3P2) atoms by bromine and iodine containing molecules.
    Tamagake, K. ; Setser, D. W. ; et al.
    In: Journal of Chemical Physics, Jg. 74 (1981-04-15), Heft 8, S. 4286-4305
    Online academicJournal
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    Spectroscopic studies of diatomic noble gas halides. II. Analysis of bound-free emission from XeBr, XeI, and KrF.
    Tellinghuisen, Joel ; Hays, A. K. ; et al.
    In: Journal of Chemical Physics, Jg. 65 (1976-12-01), Heft 11, S. 4473-4482
    Online academicJournal
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    Passive optical diagnostic of Xe propelled Hall thrusters. II. Collisional-radiative model.
    Karabadzhak, George F. ; Chiu, Yu-hui ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 99 (2006-06-01), Heft 11, S. 113305-113316
    Online academicJournal
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    Excitation spectra for the photoassociation of Kr–F and Xe–I collision pairs in the ultraviolet (208–258 nm).
    Jones, R. B. ; Schloss, J. H. ; et al.
    In: Journal of Chemical Physics, Jg. 98 (1993-03-15), Heft 6, S. 4317-4334
    Online academicJournal
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  12. Detailansicht für Treffer 12 öffnen
    Reactions in the afterglow of time modulated inductive discharges of Xe and I2 mixtures.
    Barnes, Paul N. ; Kushner, Mark J.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 84 (1998-11-01), Heft 9, S. 4727-4730
    Online academicJournal
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    Continuous-wave emission in the ultraviolet from diatomic excimers in a microdischarge.
    Frame, J. W. ; John, P. C. ; et al.
    In: Applied Physics Letters, Jg. 72 (1998-05-25), Heft 21, S. 2634-2636
    Online academicJournal
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    Product branching ratios in the reaction of Xe(3P2,0) with IBr. Role of excited potential surface
    DE VRIES, M. S ; TYNDALL, G. W ; et al.
    In: The Journal of chemical physics, Jg. 81 (1984), Heft 5, S. 2352-2356
    Online academicJournal
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    Rate constants and branching fractions for xenon halide formation from Xe(3P2) and Xe(3P1) reactions
    LIN, D ; YU, Y. C ; et al.
    In: The Journal of chemical physics, Jg. 81 (1984), Heft 12, S. 5830-5832
    Online academicJournal
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    Charge neutral MoS<subscript>2</subscript> field effect transistors through oxygen plasma treatment.
    Dhall, Rohan ; Li, Zhen ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 120 (2016-11-21), Heft 19, S. 1-6
    Online academicJournal
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    Charge neutral MoS2 field effect transistors through oxygen plasma treatment.
    Dhall, Rohan ; Li, Zhen ; et al.
    In: Journal of Applied Physics, Jg. 120 (2016-11-21), Heft 19, S. 1-6
    Online academicJournal
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  18. Detailansicht für Treffer 18 öffnen
    In-situ plasma cleaning of samples to remove hydrocarbon and/or polydimethylsiloxane prior to ToF-SIMS analysis.
    Smentkowski, Vincent S. ; Moore, C. A.
    In: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films, Jg. 31 (2013-11-01), Heft 6, S. 06F105
    academicJournal
    Wie komme ich dran?
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