Computational Fluid Dynamic Analysis of a High-Pressure Spatial Chemical Vapor Deposition (HPS-CVD) Reactor for Flow Stability.

Enayati, Hooman ; Pimputkar, Siddha

In: Crystals (2073-4352), Jg. 14 (2024-02-01), Heft 2, S. 105-123

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Titel:	Computational Fluid Dynamic Analysis of a High-Pressure Spatial Chemical Vapor Deposition (HPS-CVD) Reactor for Flow Stability.
Autor/in / Beteiligte Person:	Enayati, Hooman ; Pimputkar, Siddha
Link:	Volltext (PDF)
Zeitschrift:	Crystals (2073-4352), Jg. 14 (2024-02-01), Heft 2, S. 105-123
Veröffentlichung:	2024
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	2073-4352 (print)
DOI:	10.3390/cryst14020105
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Applied Science & Technology Source Sprachen: English

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