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Effect of the electrode structure on the electrical properties of alkoxide derived ferroelectric thin film

Ohno, Tomoya ; Matsuda, Takeshi ; et al.
In: Materials Letters, Jg. 64 (2010-08-15), Heft 15, S. 1742-1744
academicJournal

Titel:
Effect of the electrode structure on the electrical properties of alkoxide derived ferroelectric thin film
Autor/in / Beteiligte Person: Ohno, Tomoya ; Matsuda, Takeshi ; Nukina, Takero ; Sakamoto, Naonori ; Wakiya, Naoki ; Tokuda, Shou ; Suzuki, Hisao
Link:
Zeitschrift: Materials Letters, Jg. 64 (2010-08-15), Heft 15, S. 1742-1744
Veröffentlichung: 2010
Medientyp: academicJournal
ISSN: 0167-577X (print)
DOI: 10.1016/j.matlet.2010.04.028
Schlagwort:
  • FERROELECTRIC thin films
  • ALKOXIDES
  • ELECTRODES
  • MOLECULAR structure
  • METALLIC oxides
  • THERMAL expansion
  • SEMICONDUCTOR wafers
  • COATING processes
  • FERROELECTRIC thin films *
  • ALKOXIDES *
  • ELECTRODES *
  • MOLECULAR structure *
  • METALLIC oxides *
  • THERMAL expansion *
  • SEMICONDUCTOR wafers *
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: Academic Search Index
  • Sprachen: English

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