Low dielectric constant Parylene-F-like films for intermetal dielectric applications.

Yanhaloglu, Bengi ; Aydini, Atilla ; et al.

In: Applied Physics Letters, Jg. 74 (1999-01-25), Heft 4, S. 606-608

Online academicJournal

Zugriff:

Full Text Finder (Volltext)

Examines the dielectric properties and thermal stability of thin polymer films that are suitable candidates for replacing silicon dioxide as the intermetal dielectric material in integrated circuits. Magnitude of electronic and ionic contributions to the dielectric constant; Plasma deposition of amorphous fluorinated carbon films from fluorocarbon gases.

Titel:	Low dielectric constant Parylene-F-like films for intermetal dielectric applications.
Autor/in / Beteiligte Person:	Yanhaloglu, Bengi ; Aydini, Atilla ; Oye, Michael ; Aydi, Eray S.
Link:	Full Text Finder (Volltext) E-Journal im Bestand der UB Hagen?
Zeitschrift:	Applied Physics Letters, Jg. 74 (1999-01-25), Heft 4, S. 606-608
Veröffentlichung:	1999
Medientyp:	academicJournal
ISSN:	0003-6951 (print)
DOI:	10.1063/1.123160
Schlagwort:	DIELECTRICS ELECTRIC properties of thin films SILICA INTEGRATED circuits
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Complementary Index Sprachen: English

Klicken Sie ein Format an und speichern Sie dann die Daten oder geben Sie eine Empfänger-Adresse ein und lassen Sie sich per Email zusenden.

BibTeX Citavi, JabRef, u.a.
(Literaturverwaltung)

PDF kein Volltext!
(Merkzettel, Notizen)

RIS Endnote, Citavi u.a.
(Literaturverwaltung)

MODS
(XML zur Weiterverarbeitung)

oder

Wählen Sie das für Sie passende Zitationsformat und kopieren Sie es dann in die Zwischenablage, lassen es sich per Mail zusenden oder speichern es als PDF-Datei.

Gewünschter Zitations-Stil:

oder

Bitte prüfen Sie, ob die Zitation formal korrekt ist, bevor Sie sie in einer Arbeit verwenden. Benutzen Sie gegebenenfalls den "Exportieren"-Dialog, wenn Sie ein Literaturverwaltungsprogramm verwenden und die Zitat-Angaben selbst formatieren wollen.