Multi-wavelength continuous-bias DBO metrology for improved ADI process-robustness

Sendelbach, Matthew J. ; Schuch, Nivea G. ; et al.

In: Proceedings of SPIE, Jg. 12955 (2024-04-10), Heft 1, S. 129553P- (1165983S.)

serialPeriodical

Titel:	Multi-wavelength continuous-bias DBO metrology for improved ADI process-robustness
Autor/in / Beteiligte Person:	Sendelbach, Matthew J. ; Schuch, Nivea G. ; Lee, Jungmin ; Lim, Inbeom ; Park, Byeong Seon ; Lee, Changyeon ; Kwak, Mincheol ; Lee, Jeongjin ; Lee, Seung Yoon ; Hwang, Chan ; Mummery, Jay ; Almeida, Bruno Gregorio ; Park, Han-Gyeol ; Baek, Mi-Yeon ; Dahha, Kemal ; Lee, Ki-Youn ; Lee, Se-Hui ; van Leest, Arno ; Nguyen, Thao ; Noot, Marc ; Smith-Meerman, Stefan ; van Witteveen, Koen ; Yim, Jong-Hyuk ; Zwier, Olger
Zeitschrift:	Proceedings of SPIE, Jg. 12955 (2024-04-10), Heft 1, S. 129553P- (1165983S.)
Veröffentlichung:	2024
Medientyp:	serialPeriodical
ISSN:	0277-786X (print)
DOI:	10.1117/12.3012950
Sonstiges:	Nachgewiesen in: Supplemental Index Sprachen: English

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