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INTERFACIAL EFFECTS ON THE CRYSTALLIZATION TEMPERATURE OF PMN-PT FILMS DEPOSITED ON LNO OR Pt BOTTOM ELECTRODES

Thu Trang Nguyen ; Wang, Genshui ; et al.
In: Integrated Ferroelectrics, Jg. 98 (2008-06-13), S. 171-182
Online unknown

Titel:
INTERFACIAL EFFECTS ON THE CRYSTALLIZATION TEMPERATURE OF PMN-PT FILMS DEPOSITED ON LNO OR Pt BOTTOM ELECTRODES
Autor/in / Beteiligte Person: Thu Trang Nguyen ; Wang, Genshui ; Detalle, M. ; Remiens, Denis
Link:
Zeitschrift: Integrated Ferroelectrics, Jg. 98 (2008-06-13), S. 171-182
Veröffentlichung: Informa UK Limited, 2008
Medientyp: unknown
ISSN: 1607-8489 (print) ; 1058-4587 (print)
DOI: 10.1080/10584580802093520
Schlagwort:
  • 010302 applied physics
  • Materials science
  • Silicon
  • Annealing (metallurgy)
  • Analytical chemistry
  • chemistry.chemical_element
  • 02 engineering and technology
  • Dielectric
  • Sputter deposition
  • 021001 nanoscience & nanotechnology
  • Condensed Matter Physics
  • Microstructure
  • 01 natural sciences
  • Ferroelectricity
  • Electronic, Optical and Magnetic Materials
  • chemistry
  • Control and Systems Engineering
  • Sputtering
  • 0103 physical sciences
  • Materials Chemistry
  • Ceramics and Composites
  • Electrical and Electronic Engineering
  • Thin film
  • Composite material
  • 0210 nano-technology
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: OpenAIRE

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