XPS and Auger LMM analysis of ZnO/Si and ZnO/SiO2 interfaces

Raven, M. S.

In: Surface and Interface Analysis, Jg. 1 (1979-02-01), S. 20-25

Online unknown

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The interface between ZnO/Si and ZnO/SiO2 was studied by etching through the junction region and analyzing XPS and Auger LMM spectra. By comparing XPS shifts and peak splitting in the Si2p spectra, chemical complexes of the form Si—Ox—Zn (x≃1) were identified at the ZnO/Si interface. The transition from ZnO/SiO2 was characterized by intensity variations in the O1s spectra. Relative to metallic zinc the Auger LMM shifts were −4 eV for ZnO on Si and −3 eV for ZnO on SiO2. Such shifts were attributed mainly to extra-atomic relaxation. Correspondence of levels (zero Auger shifts) was observed in the spectra from the two interface regions suggesting that zinc extra-atomic relaxation was constant throughout a region of varying chemical composition.

Titel:	XPS and Auger LMM analysis of ZnO/Si and ZnO/SiO2 interfaces
Autor/in / Beteiligte Person:	Raven, M. S.
Link:	View record in OpenAIRE (Volltext) E-Journal im Bestand der UB Hagen? https://doi.org/10.1002/sia.740010105
Zeitschrift:	Surface and Interface Analysis, Jg. 1 (1979-02-01), S. 20-25
Veröffentlichung:	Wiley, 1979
Medientyp:	unknown
ISSN:	1096-9918 (print) ; 0142-2421 (print)
DOI:	10.1002/sia.740010105
Schlagwort:	Materials science Relaxation (NMR) Analytical chemistry chemistry.chemical_element Surfaces and Interfaces General Chemistry Zinc Condensed Matter Physics Spectral line Surfaces, Coatings and Films Auger Metal X-ray photoelectron spectroscopy chemistry Etching visual_art Materials Chemistry visual_art.visual_art_medium Chemical composition
Sonstiges:	Nachgewiesen in: OpenAIRE Rights: CLOSED

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