LLG Micromagnetic Simulation on STT Efficiency of sub 30nm Perpendicular MTJs with etching damage

Ito, K. ; Endoh, Tetsuo ; et al.

In: Extended Abstracts of the 2014 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2014

Online unknown

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Titel:	LLG Micromagnetic Simulation on STT Efficiency of sub 30nm Perpendicular MTJs with etching damage
Autor/in / Beteiligte Person:	Ito, K. ; Endoh, Tetsuo ; Ohuchida, Satoshi
Link:	View record in OpenAIRE (Volltext) https://doi.org/10.7567/ssdm.2014.ps-12-11
Zeitschrift:	Extended Abstracts of the 2014 International Conference on Solid State Devices and Materials, 2014
Veröffentlichung:	The Japan Society of Applied Physics, 2014
Medientyp:	unknown
DOI:	10.7567/ssdm.2014.ps-12-11
Schlagwort:	Materials science Etching (microfabrication) business.industry Perpendicular Optoelectronics business
Sonstiges:	Nachgewiesen in: OpenAIRE

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