Influence of LNO top electrodes on electrical properties of KNN/LNO thin films prepared by RF magnetron sputtering

Dong, Xianlin ; Sama, Nossikpendou ; et al.

In: Journal of the American Ceramic Society Journal of the American Ceramic Society, 2013, 96, pp.787-790. ⟨10.1111/jace.12047⟩ Journal of the American Ceramic Society, Wiley, 2013, 96, pp.787-790. ⟨10.1111/jace.12047⟩; (2013)

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Highly (001) oriented (K,Na)NbO3 (KNN) lead-free piezoelectric thin films were grown on LaNiO3 (LNO)-coated silicon by RF magnetron sputtering. The effects of the top electrodes on the electrical properties of KNN thin films were investigated. The dielectric and piezoelectric properties were remarkably improved in LNO/KNN/LNO (er = 899 at 1 kHz, d33 = 58 pm/V), compared with that in Pt/KNN/LNO (er = 584 at 1 kHz, d33 = 26 pm/V). An enhanced ferroelectricity was also obtained in LNO/KNN/LNO, with a remnant polarization of 12 μC/cm2 and a maximum polarization of 23 μC/cm2 at the applied field of 200 kV/cm. Besides, the temperature dependence of piezoelectricity of the films was characterized in this study.

Titel:	Influence of LNO top electrodes on electrical properties of KNN/LNO thin films prepared by RF magnetron sputtering
Autor/in / Beteiligte Person:	Dong, Xianlin ; Sama, Nossikpendou ; Li, Tao ; Remiens, Denis ; Li, Kui ; Wang, Genshui ; Institut d’Électronique, de Microélectronique et de Nanotechnologie - UMR 8520 (IEMN) ; Centrale Lille-Institut supérieur de l'électronique et du numérique (ISEN)-Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambrésis (UVHC)-Université de Lille-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université Polytechnique Hauts-de-France (UPHF)
Link:	View record in OpenAIRE (Volltext) https://hal.science/hal-00808152
Quelle:	Journal of the American Ceramic Society Journal of the American Ceramic Society, 2013, 96, pp.787-790. ⟨10.1111/jace.12047⟩ Journal of the American Ceramic Society, Wiley, 2013, 96, pp.787-790. ⟨10.1111/jace.12047⟩; (2013)
Veröffentlichung:	HAL CCSD, 2013
Medientyp:	unknown
ISSN:	0002-7820 (print) ; 1551-2916 (print)
Schlagwort:	010302 applied physics Materials science Silicon business.industry chemistry.chemical_element 02 engineering and technology Dielectric Sputter deposition 021001 nanoscience & nanotechnology 01 natural sciences Ferroelectricity Piezoelectricity chemistry 0103 physical sciences Electrode Materials Chemistry Ceramics and Composites Optoelectronics Thin film 0210 nano-technology business Polarization (electrochemistry)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: OpenAIRE Sprachen: English Language: English Rights: CLOSED

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