マイクロハプラズマ CVDホウニヨルコウヒンシツグラフェンセイチョウトトウメイドウデンマクノカイハツ

In: 生命健康科学研究所紀要, Jg. 11 (2015-03-01), S. 79-83

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マイクロ波表面波プラズマCVD 法で、環境に優しい原料ガス樟脳(Camphor)を使用して、銅箔上基板上に高品質グラフェンを成膜することができた。プラズマ照射中の紫外線カットにより高品質グラフェン膜の作製するためグラフェン成長中に置くチャンバー内にカバーを使用した。直接膜に当たらないようにすることで、紫外線の影響を防ぐことができ高品質なグラフェン(Id/Ig 比0.35)と透明導電膜(シート抵抗1.3kΩ/sq;透過率95.2%, @550nm)を成膜することができた。

Titel:	マイクロハプラズマ CVDホウニヨルコウヒンシツグラフェンセイチョウトトウメイドウデンマクノカイハツ
Link:	View record in OpenAIRE (Volltext) http://elib.bliss.chubu.ac.jp/webopac/XC15000101
Zeitschrift:	生命健康科学研究所紀要, Jg. 11 (2015-03-01), S. 79-83
Veröffentlichung:	中部大学生命健康科学研究所, 2015
Medientyp:	unknown
ISSN:	1880-3040 (print)
Schlagwort:	Graphene (グラフェン), Transparent conducting film )透明導電膜), Microwave CVD (プラズマCVD), Camphor (樟脳), Ultra violet ray (紫外線)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: OpenAIRE Sprachen: Japanese File Description: application/pdf Language: Japanese Rights: OPEN

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