RFプラズマCVDによるアモルファスカーボン薄膜の作製 ; Formation of Amorphous Carbon Films by RF Plasma CVD

秀己, 清水 ; 明, 伊貝

In: 愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編, 52, 41-49(2003-03-01); AA11528269;; (2003)

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Titel:	RFプラズマCVDによるアモルファスカーボン薄膜の作製 ; Formation of Amorphous Carbon Films by RF Plasma CVD
Autor/in / Beteiligte Person:	秀己, 清水 ; 明, 伊貝
Link:	https://aue.repo.nii.ac.jp/?action=repository_uri&item_id=982 Volltext https://aue.repo.nii.ac.jp/?action=repository_action_common_download&item_id=982&item_no=1&attribute_id=15&file_no=1
Quelle:	愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編, 52, 41-49(2003-03-01); AA11528269;; (2003)
Veröffentlichung:	愛知教育大学, 2003
Medientyp:	report
ISSN:	1346-1818 (print)
Schlagwort:	RFプラズマCVD RF Plasma CVD アモルファスカーボン Amorphous Carbon 偏光解析 Ellipsometry
Sonstiges:	Nachgewiesen in: BASE Sprachen: Japanese Collection: Aichi University of Education: AUE Repository / 愛知教育大学学術情報リポジトリ Document Type: report Language: Japanese

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