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Correlations between DCR and PDP of SPAD integrated in a 28 nm FD-SOI CMOS Technology

Gao, Shaochen Gao ; Issartel, Dylan ; et al.
In: 2023, International Image Sensor Workshop (IISW), Crieff, United Kingdom, 21-25 May, 2023
Konferenz

Titel:
Correlations between DCR and PDP of SPAD integrated in a 28 nm FD-SOI CMOS Technology
Autor/in / Beteiligte Person: Gao, Shaochen Gao ; Issartel, Dylan ; Dolatpoor Lakeh, Mohammadreza ; Mandorlo, Fabien ; Orobtchouk, Régis ; Kammerer, Jean-Baptiste ; Cathelin, Andreia ; Golanski, Dominique ; Uhring, Wilfried ; Calmon, Francis ; Laboratoire des sciences de l'ingénieur, de l'informatique et de l'imagerie (ICube) ; École Nationale du Génie de l'Eau et de l'Environnement de Strasbourg (ENGEES)-Université de Strasbourg (UNISTRA)-Institut National des Sciences Appliquées - Strasbourg (INSA Strasbourg) ; Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National des Sciences Appliquées (INSA)-Institut National de Recherche en Informatique et en Automatique (Inria)-Les Hôpitaux Universitaires de Strasbourg (HUS)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Matériaux et Nanosciences Grand-Est (MNGE) ; Université de Strasbourg (UNISTRA)-Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA))-Institut National de la Santé et de la Recherche Médicale (INSERM)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Strasbourg (UNISTRA)-Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA))-Institut National de la Santé et de la Recherche Médicale (INSERM)-Institut de Chimie du CNRS (INC)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Réseau nanophotonique et optique ; Université de Strasbourg (UNISTRA)-Université de Haute-Alsace (UHA) Mulhouse - Colmar (Université de Haute-Alsace (UHA))-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)-Université de Strasbourg (UNISTRA)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS)
Link:
Zeitschrift: 2023, International Image Sensor Workshop (IISW), Crieff, United Kingdom, 21-25 May, 2023
Veröffentlichung: HAL CCSD, 2023
Medientyp: Konferenz
Schlagwort:
  • Crieff
  • United Kingdom
  • [SPI.NANO]Engineering Sciences [physics]/Micro and nanotechnologies/Microelectronics
  • Subject Geographic: Crieff United Kingdom
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: BASE
  • Sprachen: English
  • Collection: Archive ouverte HAL (Hyper Article en Ligne, CCSD - Centre pour la Communication Scientifique Directe)
  • Document Type: conference object ; still image
  • Language: English
  • Relation: hal-03977945; https://hal.science/hal-03977945

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