Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi
In: Grahn , K & Halonen , K 1985 , Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Tiedotteita , no. 412 , VTT Technical Research Centre of Finland , Espoo .; (1985)
Buch
Zugriff:
Simulointiohjelmaa SUPREM2 voidaan käyttää apuvälineenä suunniteltaessa uutta puoliiohdekomponenttien valmistusprosessia tai kehiteltäessä jo olemassa olevaa prosessia. Ohjelma laskee prosessiaskeleiden, epitaktinen kasvatus, ioni-istutus, oksidointi ja diffuusio, aikana tapahtuvan konsentraatioprofiilin muutoksen. Lisäksi se laskee pn-liitosten syvyydet sekä puolijohdekomponenttien sähköiset suureet, neliövastuksen ja kynnysjännitteen. Aluksi käydään läpi eri prosessivaiheita kuvaavia matemaattisia malleja ja tarkastellaan lyhyesti simulointiohjelman rakennetta. Uusi yhteispohjoismainen CMOS-prosessi, nimeltään NordiCMOS, on simuloitu SUPREM2:lla. Simuloidut tulokset vastaavat hyvin muualla mitattuja vastaavan prosessin arvoja. Tavoitteena on saada toimiva prosessi suunnittelusääntöineen.
Titel: |
Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi
|
---|---|
Autor/in / Beteiligte Person: | Grahn, Kaj ; Halonen, Kari |
Link: | |
Quelle: | Grahn , K & Halonen , K 1985 , Puolijohdekomponenttien valmistusprosessin simulointi Valtion teknillinen tutkimuskeskus. Tiedotteita , no. 412 , VTT Technical Research Centre of Finland , Espoo .; (1985) |
Veröffentlichung: | VTT Technical Research Centre of Finland, 1985 |
Medientyp: | Buch |
Schlagwort: |
|
Sonstiges: |
|