90纳米逻辑工艺中CTW-CMP研磨时间稳定性的改善

刘辉 ; 北京大学

In: 万方 ; http://d.g.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y2524353.aspx, 2011

Online Hochschulschrift

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Titel:	90纳米逻辑工艺中CTW-CMP研磨时间稳定性的改善
Autor/in / Beteiligte Person:	刘辉 ; 北京大学
Link:	http://hdl.handle.net/20.500.11897/387642 https://doi.org/20.500.11897/387642 Volltext
Zeitschrift:	万方 ; http://d.g.wanfangdata.com.cn/Thesis_Y2524353.aspx, 2011
Veröffentlichung:	2011
Medientyp:	Hochschulschrift
DOI:	20.500.11897/387642
Schlagwort:	降温方法 CTW-CMP研磨 90纳米逻辑工艺时间稳定性
Sonstiges:	Nachgewiesen in: BASE Sprachen: Chinese Collection: Peking University Institutional Repository (PKU IR) / 北京大学机构知识库 Document Type: thesis Language: Chinese Relation: 北京大学.; 753667; http://hdl.handle.net/20.500.11897/387642

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