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Study of SiGe nanowires growth by chemical vapour deposition and characterization by atomic force microscopy. ; Etude de la croissance de nanofils de Si Ge et caractérisation par microscopie à force atomique

Potié, Alexis ; Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique (IMEP) ; et al.
In: https://theses.hal.science/tel-00767918 ; Autre. Université de Grenoble, 2012. Français. ⟨NNT : 2012GRENT008⟩, 2012
Online Hochschulschrift

Titel:
Study of SiGe nanowires growth by chemical vapour deposition and characterization by atomic force microscopy. ; Etude de la croissance de nanofils de Si Ge et caractérisation par microscopie à force atomique
Autor/in / Beteiligte Person: Potié, Alexis ; Institut de Microélectronique, Electromagnétisme et Photonique (IMEP) ; Université Joseph Fourier - Grenoble 1 (UJF)-Institut National Polytechnique de Grenoble (INPG)-Centre National de la Recherche Scientifique (CNRS) ; Université de Grenoble ; Baron, Thierry ; Montès, Laurent
Link:
Zeitschrift: https://theses.hal.science/tel-00767918 ; Autre. Université de Grenoble, 2012. Français. ⟨NNT : 2012GRENT008⟩, 2012
Veröffentlichung: HAL CCSD, 2012
Medientyp: Hochschulschrift
Schlagwort:
  • Microelectronics
  • Nanotechnology
  • Nanowire
  • Silicon
  • Germanium
  • CVD
  • Alternative catalysts
  • Characterization
  • AFM
  • Nanomanipulation
  • III-V
  • Microélectronique
  • Nanotechnologies
  • Nanofils
  • Silicium
  • Catalyseurs alternatifs
  • Caractérisation
  • [SPI.OTHER]Engineering Sciences [physics]/Other
Sonstiges:
  • Nachgewiesen in: BASE
  • Sprachen: French
  • Collection: Université Grenoble Alpes: HAL
  • Document Type: doctoral or postdoctoral thesis
  • Language: French
  • Relation: NNT: 2012GRENT008; tel-00767918; https://theses.hal.science/tel-00767918; https://theses.hal.science/tel-00767918/document; https://theses.hal.science/tel-00767918/file/PotiA_Alexis_2012_archivage.pdf
  • Rights: info:eu-repo/semantics/OpenAccess

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