60-nm Gate Length SOI CMOS Technology Optimized for 'System-on-a-SOI-Chip' Solution : ULSI process integration
In: PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV; (2003) S. 493-502
Konferenz
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Titel: |
60-nm Gate Length SOI CMOS Technology Optimized for 'System-on-a-SOI-Chip' Solution : ULSI process integration
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Autor/in / Beteiligte Person: | Imai, K. ; Maruyama, S. ; Suzuki, T. ; Kudo, T. ; Miyake, S. ; Ikeda, M. ; Abe, T. ; Masuda, S. ; Tanabe, A. ; Lee, J. W. |
Link: | |
Quelle: | PROCEEDINGS- ELECTROCHEMICAL SOCIETY PV; (2003) S. 493-502 |
Veröffentlichung: | 2003 |
Medientyp: | Konferenz |
ISBN: | 978-1-56677-376-8 (print) ; 1-56677-376-8 (print) |
Sonstiges: |
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