'Metal Density Optimization With CMP - Bases Dummy Placement' : International chemical-mechanical planarization for ULSI multilevel interconnection conference; (CMP-MIC)

Sukharev, V. ; Zarkesh-Ha, P. ; et al.

In: INTERNATIONAL CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION FOR ULSI MULTILEVEL INTERCONNECTION CONFERENCE; (2003) S. 453-462

Konferenz

Titel:	'Metal Density Optimization With CMP - Bases Dummy Placement' : International chemical-mechanical planarization for ULSI multilevel interconnection conference; (CMP-MIC)
Autor/in / Beteiligte Person:	Sukharev, V. ; Zarkesh-Ha, P. ; Chang, C. H. ; Loh, W.
Link:	http://explore.bl.uk/primo_library/libweb/action/display.do?tabs=detailsTab&gathStatTab=true&ct=display&fn=search&doc=ETOCCN049572141&indx=1&recIds=ETOCCN049572141
Quelle:	INTERNATIONAL CHEMICAL MECHANICAL PLANARIZATION FOR ULSI MULTILEVEL INTERCONNECTION CONFERENCE; (2003) S. 453-462
Veröffentlichung:	2003
Medientyp:	Konferenz
Sonstiges:	Nachgewiesen in: British Library Document Supply Centre Inside Serials & Conference Proceedings Sprachen: English

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