Impact of Plasma Treatment of n-Al<subscript>0.87</subscript>Ga<subscript>0.13</subscript>N:Si Surfaces on V/Al/Ni/Au Contacts in Far-UVC LEDs

Cho, Hyun Kyong ; Rass, Jens ; et al.

In: IEEE photonics technology letters, Jg. 35 (2023), Heft 17, S. 915-918

Online serialPeriodical

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Titel:	Impact of Plasma Treatment of n-Al<subscript>0.87</subscript>Ga<subscript>0.13</subscript>N:Si Surfaces on V/Al/Ni/Au Contacts in Far-UVC LEDs
Autor/in / Beteiligte Person:	Cho, Hyun Kyong ; Rass, Jens ; Mogilatenko, Anna ; Kunkel, Kevin ; Unger, Ralph-Stephan ; Schilling, Marcel ; Wernicke, Tim ; Einfeldt, Sven
Link:	Volltext http://explore.bl.uk/primo_library/libweb/action/display.do?tabs=detailsTab&gathStatTab=true&ct=display&fn=search&doc=ETOCvdc_100186736493.0x000001&indx=1&recIds=ETOCvdc_100186736493.0x000001
Zeitschrift:	IEEE photonics technology letters, Jg. 35 (2023), Heft 17, S. 915-918
Veröffentlichung:	2023
Medientyp:	serialPeriodical
ISSN:	1041-1135 (print)
Sonstiges:	Nachgewiesen in: British Library Document Supply Centre Inside Serials & Conference Proceedings Sprachen: English

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